有機/無機ナノ複合体用の十分に規定されたナノサイズの構築ブロック

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (9)：中村稔 , 大塚文昭 , 熊倉禎男 , 宍戸嘉一 , 今城俊夫 , 小川信夫 , 村社厚夫 , 西島孝喜 , 箱田篤
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2003503634
Publication number (International publication number)：2004529984
Application date： Oct. 29, 2001
Publication date： Sep. 30, 2004
Summary：

【課題】ナノ複合体用の官能化したシルセスキオキサンを提供すること。【解決手段】6〜24個のケイ素原子及び最小限で約67モル%のRSiO3/2部分を含み、式中Rが化学的に反応性である官能基を有するフェニル基である官能化したシルセスキオキサンは、中間相を高い割合で含む、多くの型の高度に整列したナノ複合体を製造する場合にナノ粒子として使用するのに非常に適している。ナノ複合体は、均一な、高度に官能化したナノ粒子の使用により、通常ではない物理化学的性質を有する。【選択図】図2

Claim (excerpt)：

最大寸法が100nmより小さい官能化したシルセスキオキサンナノ粒子であって、最小で6個、好ましくは24個までのケイ素原子を含み、67モルパーセントを越えるRSiO3/2部分を含み、式中Rはフェニル基又は一若しくは複数の反応性官能基を有するフェニル基であるシルセスキオキサンマクロモノマー、又はSi-O-Si結合で結合した該マクロモノマーのオリゴマー又はポリマーであって、少なくとも一つの該フェニル基が一つの反応性官能基を有しているものを含む、ナノ粒子。

IPC (1)：

C07F7/21

FI (1)：

C07F7/21

F-Term (31)：

4H049VN01 , 4H049VP08 , 4H049VQ88 , 4H049VR21 , 4H049VR43 , 4H049VS88 , 4H049VU20 , 4J036AD08 , 4J036AJ21 , 4J036BA01 , 4J036BA09 , 4J036DC03 , 4J036DD08 , 4J036FB16 , 4J036JA15 , 4J043PA15 , 4J043QB15 , 4J043QB26 , 4J043RA34 , 4J043SA05 , 4J043SA09 , 4J043SB01 , 4J043TA22 , 4J043TB01 , 4J043UA111 , 4J043UA122 , 4J043UA181 , 4J043UB351 , 4J043WA09 , 4J043ZB11 , 4J043ZB21

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

熱現像材料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-296747 Applicant：コニカ株式会社
絶縁材用樹脂組成物およびこれを用いた絶縁材
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-000190 Applicant：住友ベークライト株式会社
多面体オリゴマーシルセスキオキサンの形成方法
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2001-526838 Applicant：ハイブリッド・プラスチックス

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

Hybrid Organic-Inorganic Thermoplastics: Styryl-Based Polyhedral Oligomeric Silsesquioxane Polymers
Highly functionalized octasilsesquioxanes synthesis, structure and reactivity
Silsesquioxanes

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