走査型露光方法及び装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：大森聡
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995055399
Publication number (International publication number)：1996250402
Application date： Mar. 15, 1995
Publication date： Sep. 27, 1996
Summary：

【要約】【目的】パルス光源又は連続光源を用いて走査露光方式で露光を行う場合に、ショット領域間、又はウエハ間での積算露光量のばらつきを少なくし、積算露光量を適正範囲内に収める。【構成】パルス光源を使用する場合、走査露光方式でウエハ上の或るショット領域の各点にそれぞれNパルス分のパルス照明光を露光するものとして、各パルス照明光の照射毎にそれまでのNパルス分の積算露光量S1,S2,...,SM を計測し、これら積算露光量の平均値Srst を算出し、この平均値Srst より平均パルスエネルギーを算出する。次のショット領域への露光の前にその平均値Srst 及び平均パルスエネルギーに基づいて、積算露光量が目標積算露光量S0 に近づくように露光量を調整する。

Claim (excerpt)：

露光用のパルス光源からのパルス照明光で所定形状の照明領域を照明し、該照明領域に対して相対的に転写用のパターンが形成されたマスク及び感光基板を同期して走査することにより、前記マスクのパターンを逐次前記感光基板上に露光する走査型露光装置において、走査露光中に前記パルス照明光のそれぞれのエネルギー量を順次検出する照射エネルギー検出手段と、該照射エネルギー検出手段の検出結果を用いて、単位パルス数ずつずらして順次それまでの所定のNパルス分(Nは2以上の整数)の積算光量を算出する演算手段と、該演算手段により算出された一連の積算光量の変化に応じて前記感光基板上での露光量を調整する露光量制御手段と、を有することを特徴とする走査型露光装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (4)：

H01L 21/30 518 , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 502 G , H01L 21/30 516 D

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

露光制御装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-035248 Applicant：株式会社ニコン
特開平2-065222

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