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J-GLOBAL ID：200903039257546429

プロトン伝導性材料、プロトン伝導性膜およびその製造方法

Inventor：
南 努

About 南 努

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辰巳砂 昌弘

About 辰巳砂 昌弘

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忠永 清治

About 忠永 清治

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松田 厚範

About 松田 厚範


Applicant, Patent owner：
南 努

About 南 努

, 
ジェイエスアール株式会社

About ジェイエスアール株式会社


Agent (1)： 鈴木 俊一郎 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001329215
Publication number (International publication number)：2003132732
Application date： Oct. 26, 2001
Publication date： May. 09, 2003
Summary：
【要約】【課題】プロトン伝導性に優れ、高温条件下でもプロトン伝導性の低下が少ないプロトン伝導材料、プロトン伝導性膜およびその製造方法を提供すること。【解決手段】プロトン伝導材料は、ホスホシリケートゲルとポリイミドとからなる。上記ホスホシリケートゲルは、例えば酸性縮合触媒を含む水とテトラアルコキシシランとの接触物に、リン酸を添加し混合してゾルとし、得られたゾルをゲル化させた後熱処理することにより得られる。プロトン伝導性膜は、ホスホシリケートゲルとポリイミドとからなる。プロトン伝導性膜の製造方法は、ポリイミドまたはポリアミック酸と、ホスホシリケートゲルとを含む懸濁分散液を基板に塗布した後、加熱する。
Claim (excerpt)：
ホスホシリケートゲルとポリイミドとからなることを特徴とするプロトン伝導材料。
IPC (9)：
H01B 1/06 ,  C01B 33/00 ,  C08J 5/18 CFG ,  C08L 79/08 ,  C09D179/08 ,  C09D183/02 ,  H01B 13/00 ,  H01M 8/02 ,  H01M 8/10
FI (9)：
H01B 1/06 A ,  C01B 33/00 ,  C08J 5/18 CFG ,  C08L 79/08 Z ,  C09D179/08 Z ,  C09D183/02 ,  H01B 13/00 Z ,  H01M 8/02 P ,  H01M 8/10
F-Term (41)：
4F071AA60 ,  4F071AA66 ,  4F071AH12 ,  4F071AH15 ,  4F071BA06 ,  4F071BB02 ,  4F071BC01 ,  4F071BC02 ,  4G072AA50 ,  4G072BB09 ,  4G072HH30 ,  4G072JJ11 ,  4G072JJ42 ,  4G072MM01 ,  4G072MM36 ,  4G072PP01 ,  4G072PP03 ,  4G072PP17 ,  4G072RR05 ,  4G072UU03 ,  4G072UU30 ,  4J002CM04W ,  4J002CP02X ,  4J002GQ02 ,  4J038DJ021 ,  4J038DJ022 ,  4J038DL021 ,  4J038DL022 ,  4J038HA416 ,  4J038MA10 ,  4J038NA17 ,  5G301CA30 ,  5G301CD01 ,  5G301CE01 ,  5H026AA06 ,  5H026BB01 ,  5H026BB04 ,  5H026CX05 ,  5H026EE11 ,  5H026EE15 ,  5H026EE18
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3) Cited by examiner (3)

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