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J-GLOBAL ID:200903039310387800
磁性膜の形成方法、磁性パターンの形成方法及び磁気記録媒体の製造方法
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
吉村 俊一
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004030311
Publication number (International publication number):2005223178
Application date: Feb. 06, 2004
Publication date: Aug. 18, 2005
Summary:
【課題】 保磁力が異なる部分を有する磁性膜を形成することができる磁性膜の形成方法等を提供する。【解決手段】 Fe及びCoの少なくとも一方を主成分と、Pd及びPtの少なくとも一方とを主成分とする薄膜4に、ホウ素イオン6を局所的に注入した後に熱処理し、ホウ素イオン6が注入された部位7は高い保磁力を有する部位9となり、ホウ素イオン6が局所的に注入されていない部位8は低い保磁力を有する部位10となる。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
Fe及びCoの少なくとも一方と、Pd及びPtの少なくとも一方とを主成分とする薄膜にホウ素イオンを局所的に注入した後に熱処理することを特徴とする磁性膜の形成方法。
IPC (5):
H01F41/14
, G11B5/66
, G11B5/851
, H01F10/14
, H01F10/16
FI (5):
H01F41/14
, G11B5/66
, G11B5/851
, H01F10/14
, H01F10/16
F-Term (14):
5D006BB06
, 5D006BB07
, 5D112AA05
, 5D112BB02
, 5D112BB05
, 5D112FA04
, 5D112GA23
, 5E049AA01
, 5E049AA04
, 5E049AA09
, 5E049AC05
, 5E049BA06
, 5E049EB06
, 5E049FC01
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
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特に磁気記録または光磁気記録用の磁気彫刻法
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2000-527952
Applicant:サントルナショナールドラルシェルシュシアンティフィク(セーエヌエルエス)
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磁気記録媒体の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-206906
Applicant:松下電器産業株式会社
Cited by examiner (5)
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特開平3-254421
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磁気記録媒体及びその作成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-184162
Applicant:大木登
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磁気記録媒体およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-088129
Applicant:富士電機株式会社
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