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J-GLOBAL ID:200903039310387800

磁性膜の形成方法、磁性パターンの形成方法及び磁気記録媒体の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 吉村 俊一
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004030311
Publication number (International publication number):2005223178
Application date: Feb. 06, 2004
Publication date: Aug. 18, 2005
Summary:
【課題】 保磁力が異なる部分を有する磁性膜を形成することができる磁性膜の形成方法等を提供する。【解決手段】 Fe及びCoの少なくとも一方を主成分と、Pd及びPtの少なくとも一方とを主成分とする薄膜4に、ホウ素イオン6を局所的に注入した後に熱処理し、ホウ素イオン6が注入された部位7は高い保磁力を有する部位9となり、ホウ素イオン6が局所的に注入されていない部位8は低い保磁力を有する部位10となる。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
Fe及びCoの少なくとも一方と、Pd及びPtの少なくとも一方とを主成分とする薄膜にホウ素イオンを局所的に注入した後に熱処理することを特徴とする磁性膜の形成方法。
IPC (5):
H01F41/14 ,  G11B5/66 ,  G11B5/851 ,  H01F10/14 ,  H01F10/16
FI (5):
H01F41/14 ,  G11B5/66 ,  G11B5/851 ,  H01F10/14 ,  H01F10/16
F-Term (14):
5D006BB06 ,  5D006BB07 ,  5D112AA05 ,  5D112BB02 ,  5D112BB05 ,  5D112FA04 ,  5D112GA23 ,  5E049AA01 ,  5E049AA04 ,  5E049AA09 ,  5E049AC05 ,  5E049BA06 ,  5E049EB06 ,  5E049FC01
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2) Cited by examiner (5)
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