シリカ質セラミックス形成用組成物、同セラミックスの形成方法及び同セラミックス膜

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：河備健二 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995200584
Publication number (International publication number)：1997031333
Application date： Jul. 13, 1995
Publication date： Feb. 04, 1997
Summary：

【要約】【課題】低温処理によって高速酸化が可能なシリカ質セラミックス形成用組成物及び同セラミックスの形成方法及び同セラミックス膜を提供する。【解決手段】ポリシラザン(変性物)にアミン類又は/及び酸類を添加してなるシリカ質セラミックス形成用組成物、該組成物を水蒸気と接触させるシリカ質セラミックスの製造方法、ポリシラザン(変性物)をアミン類又は/及び酸類を含む水溶液中に浸漬するか、又は該水溶液から発生する蒸気と接触させるシリカ質セラミックスの製造方法及びアミン類を含有してなるシリカ質セラミックス膜。

Claim (excerpt)：

主として下記一般式(I)【化1】(式中、R1、R2及びR3は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール基、若しくはこれらの基以外でフルオロアルキル基等のケイ素に直結する基が炭素である基、アルキルシリル基、アルキルアミノ基又はアルコキシ基を表す。但し、R1、R2及びR3の少なくとも1つは水素原子である。)で表される構造単位からなる骨格を有する数平均分子量が約100〜50,000のポリシラザン又はその変性物に、アミン類又は/及び酸類を添加してなることを特徴とするシリカ質セラミックス形成用組成物。

IPC (4)：

C08L 83/16 LRM , C01B 33/12 , C04B 35/14 , C08G 77/62 NUM

FI (4)：

C08L 83/16 LRM , C01B 33/12 C , C08G 77/62 NUM , C04B 35/14

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

特許第3442160号
特許第3449798号
特許第3666915号

Cited by examiner (20)

特開平1-203429
特開平1-203430
特開平1-138107

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