ごみ埋立構造

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：宇佐見忠男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994125750
Publication number (International publication number)：1995303870
Application date： May. 13, 1994
Publication date： Nov. 21, 1995
Summary：

【要約】【目的】本発明の目的はごみ埋立孔からの環境汚染を防止することにある。【構成】ごみ埋立用孔1の最底部に人工ゼオライト層8を形成し、該ゼオライト層8上にごみ層5を形成し、該ごみ層5上に土砂層6を被覆した三層構造を繰返す。

Claim (excerpt)：

ごみ埋立用孔の最底部に人工ゼオライト層を敷設し、該人工ゼオライト層上にごみ層を形成し、該ごみ層上に土砂層を被覆した三層構造の繰返しからなるごみの埋立構造

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

特開昭61-101288
特開昭57-085414
特開昭63-177099

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