厚膜用ポジ型ホトレジスト組成物、ホトレジスト膜およびこれを用いたバンプ形成方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：曾我道照 (外7名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001061565
Publication number (International publication number)：2002258479
Application date： Mar. 06, 2001
Publication date： Sep. 11, 2002
Summary：

【要約】【課題】基板との密着性、耐メッキ液性、現像性、基板からの剥離性に優れ、バンプ形成用材料として好適な厚膜形成に適するポジ型ホトレジスト組成物、ホトレジスト膜およびこれを用いたバンプ形成方法の提供。【解決手段】 (A)アルカリ可溶性ノボラック樹脂、(B)アルカリ可溶性アクリル樹脂、(C)キノンジアジド基含有化合物を含有する厚さ5〜100μmの厚膜用ポジ型ホトレジスト組成物であり、(B)成分が(b1)エーテル結合を有する重合性化合物から誘導された構成単位30〜90重量%、および(b2)カルボキシル基を有する重合性化合物から誘導された構成単位50〜2重量%を含有する。この組成物を基材上に塗布、乾燥してホトレジスト膜を得る。さらに該組成物を電子部品の基板上に塗布し、パターニングし、メッキ処理しバンプを形成する。

Claim (excerpt)：

(A)アルカリ可溶性ノボラック樹脂、(B)アルカリ可溶性アクリル樹脂、(C)キノンジアジド基含有化合物を含有する厚さ5〜100μmの厚膜用ポジ型ホトレジスト組成物において、前記(B)アルカリ可溶性アクリル樹脂が、(b1)エーテル結合を有する重合性化合物から誘導された構成単位30〜90重量%、および(b2)カルボキシル基を有する重合性化合物から誘導された構成単位50〜2重量%を含有することを特徴とする厚膜用ポジ型ホトレジスト組成物。

IPC (9)：

G03F 7/032 , C08F220/26 , C08K 5/28 , C08K 5/42 , C08L 33/00 , C08L 61/10 , G03F 7/022 601 , G03F 7/40 521 , H01L 21/027

FI (9)：

G03F 7/032 , C08F220/26 , C08K 5/28 , C08K 5/42 , C08L 33/00 , C08L 61/10 , G03F 7/022 601 , G03F 7/40 521 , H01L 21/30 502 R

F-Term (68)：

2H025AA00 , 2H025AA04 , 2H025AA14 , 2H025AB15 , 2H025AB16 , 2H025AC01 , 2H025AD03 , 2H025BE01 , 2H025CB14 , 2H025CB29 , 2H025CB43 , 2H025CB52 , 2H025CB55 , 2H025FA03 , 2H025FA17 , 2H025FA43 , 2H096AA00 , 2H096AA25 , 2H096AA26 , 2H096BA10 , 2H096BA20 , 2H096EA02 , 2H096GA08 , 2H096HA27 , 2H096JA04 , 4J002BG01X , 4J002BG07X , 4J002BH02X , 4J002CC03W , 4J002CC04W , 4J002CC05W , 4J002EQ036 , 4J002EV246 , 4J002FD010 , 4J002FD090 , 4J002GP03 , 4J002HA05 , 4J100AB02R , 4J100AB03R , 4J100AC03R , 4J100AC04R , 4J100AG04R , 4J100AJ01Q , 4J100AJ02Q , 4J100AJ08Q , 4J100AJ09Q , 4J100AL03R , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL08R , 4J100AL09P , 4J100AL09R , 4J100AL34R , 4J100AL91Q , 4J100AM02R , 4J100AM15R , 4J100AS02R , 4J100AS03R , 4J100BA05P , 4J100BA08P , 4J100BA16Q , 4J100BC43P , 4J100BC43R , 4J100BC58P , 4J100CA04 , 4J100CA05 , 4J100FA03 , 4J100JA38

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

感光性樹脂組成物、感光性樹脂膜およびこれを用いたバンプ形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-057022 Applicant：ジェイエスアール株式会社
ポジ型フォトレジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-027211 Applicant：ジェイエスアール株式会社

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