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J-GLOBAL ID：200903039872062571

感光性基板に凹凸パターンを形成する方法及び干渉縞パターン露光装置

Inventor： 上田 裕昭 ,  横山 光 ,  大森 滋人
Applicant, Patent owner： コニカミノルタホールディングス株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007130335
Publication number (International publication number)：2008286920
Application date： May. 16, 2007
Publication date： Nov. 27, 2008
Summary：

【課題】大きな面積に波長と同程度の微細な凹凸パターンを精度良く容易に形成する凹凸パターン形成方法を提供する。【解決手段】2つの光束を用いた干渉露光方式により感光性基板の表面に干渉縞パターンを露光し、前記感光性基板に凹凸パターンを形成する方法において、光軸に垂直な方向の光束幅が互いに異なる2つの帯状光束を、それぞれの前記帯状光束の短い方を一致するように重ね合わせて、前記帯状光束の幅の長い方向に周期を有する干渉縞パターンを形成する工程と、前記感光性基板の表面に前記干渉縞パターンを露光する際に、前記干渉縞パターンが周期を有する方向に対して垂直の方向に、前記感光性基板と前記干渉縞パターンとを相対的に移動させながら露光する工程と、を有する。【選択図】図3

Claim (excerpt)：

2つの光束を用いた干渉露光方式により感光性基板の表面に干渉縞パターンを露光し、前記感光性基板に凹凸パターンを形成する方法において、 光軸に垂直な方向の光束幅が互いに異なる2つの帯状光束を、それぞれの前記帯状光束の短い方を一致するように重ね合わせて、前記帯状光束の幅の長い方向に周期を有する干渉縞パターンを形成する工程と、 前記感光性基板の表面に前記干渉縞パターンを露光する際に、前記干渉縞パターンが周期を有する方向に対して垂直の方向に、前記感光性基板と前記干渉縞パターンとを相対的に移動させながら露光する工程と、 を有することを特徴とする感光性基板に凹凸パターンを形成する方法。

IPC (3)：

G02B 5/18 ,  G03F 7/20 ,  H05B 33/10

FI (3)：

G02B5/18 ,  G03F7/20 505 ,  H05B33/10

F-Term (22)：

2H049AA03 ,  2H049AA13 ,  2H049AA25 ,  2H049AA34 ,  2H049AA60 ,  2H049AA64 ,  2H097AA20 ,  2H097BA10 ,  2H097BB03 ,  2H097CA17 ,  2H097LA13 ,  2H249AA03 ,  2H249AA13 ,  2H249AA25 ,  2H249AA34 ,  2H249AA60 ,  2H249AA64 ,  3K107AA01 ,  3K107BB01 ,  3K107CC05 ,  3K107EE31 ,  3K107GG11

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• 特開昭63-314795号公報
  
• 微細パターンを有する光学素子の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-281603   Applicant：三洋電機株式会社, 三洋マービック・メディア株式会社
• 特開昭60-156004号公報