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J-GLOBAL ID:200903040040024414
光吸収剤
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999138808
Publication number (International publication number):2000328039
Application date: May. 19, 1999
Publication date: Nov. 28, 2000
Summary:
【要約】【課題】 紫外領域から赤外領域にいたる広範な光の領域において、所望の領域の光を効率的に遮光し得る手段とその用途を提供することを課題とする。【解決手段】 カルコン構造、ベーススチリル構造、シアニン構造、メロシアニン構造、フェニルメタン構造、クマリン構造、ピリリウム構造及びニッケル錯体構造のいずれかを有し、衣料に用い得る有機色素化合物を1又は複数含んでなる光吸収剤と、その光吸収剤を含んでなる衣料を提供することによって解決する。
Claim (excerpt):
カルコン構造、ベーススチリル構造、シアニン構造、メロシアニン構造、フェニルメタン構造、クマリン構造、ピリリウム構造又はニッケル錯体構造のいずれかを有し、衣料に用い得る有機色素化合物を1又は複数含んでなる光吸収剤。
IPC (11):
C09K 3/00
, C09K 3/00 104
, C09K 3/00 105
, C09B 23/14
, C09B 57/02
, C09B 65/00
, C09B 69/00
, C09D 5/32
, C09D 7/12
, D06M 13/335
, C08K 5/00
FI (11):
C09K 3/00 U
, C09K 3/00 104 Z
, C09K 3/00 105
, C09B 23/14
, C09B 57/02
, C09B 65/00
, C09B 69/00
, C09D 5/32
, C09D 7/12 Z
, D06M 13/335
, C08K 5/00
F-Term (61):
4H056BA02
, 4H056BB05
, 4H056BF02E
, 4H056BF21
, 4H056BF26F
, 4H056BF29F
, 4H056BF34
, 4H056CA01
, 4H056CA02
, 4H056CA03
, 4H056CC02
, 4H056CC08
, 4H056CD02
, 4H056CE02
, 4H056CE03
, 4H056CE06
, 4H056CE07
, 4H056DD03
, 4H056DD04
, 4H056DD06
, 4H056DD07
, 4H056DD12
, 4H056DD19
, 4H056DD23
, 4H056DD28
, 4H056DD29
, 4H056EA13
, 4H056EA14
, 4H056FA05
, 4J002BG031
, 4J002CC161
, 4J002CC181
, 4J002CD001
, 4J002EE026
, 4J002EJ016
, 4J002EL086
, 4J002EL096
, 4J002EN086
, 4J002EU026
, 4J002EU036
, 4J002EU066
, 4J002EU106
, 4J002EV306
, 4J002EV326
, 4J002EV346
, 4J002EZ006
, 4J002FD096
, 4J038EA011
, 4J038JA65
, 4J038JB28
, 4J038JB38
, 4J038JC18
, 4J038KA08
, 4L033AA00
, 4L033AB04
, 4L033AC15
, 4L033BA07
, 4L033BA23
, 4L033BA44
, 4L033BA85
, 4L033DA06
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (20)
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紫外線・近赤外線遮断塗料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-250374
Applicant:大原廷仁, 大原幾重, 古市弘光, 古市武
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紫外線吸収剤
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Application number:特願平4-089918
Applicant:鐘紡株式会社, 大日本インキ化学工業株式会社
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2,4,6-トリヒドロキシカルコン及びそれを含有する化粧料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-275894
Applicant:ポーラ化成工業株式会社
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Application number:特願平4-257400
Applicant:株式会社資生堂
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Application number:特願平5-276651
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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新規メロシアニン染料およびそれの製造方法
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Application number:特願平8-070579
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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Application number:特願平9-144336
Applicant:ミリケン・リサーチ・コーポレーション
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特開平2-264788
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Application number:特願平8-091806
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Application number:特願平8-023609
Applicant:出光興産株式会社
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Application number:特願平6-201409
Applicant:金澤等
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Application number:特願平7-119217
Applicant:パイロットインキ株式会社
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特開昭62-161873
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