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J-GLOBAL ID:200903040131894632

レーザー照射装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 志賀 正武 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993266567
Publication number (International publication number):1995116879
Application date: Oct. 25, 1993
Publication date: May. 09, 1995
Summary:
【要約】【目的】 レーザー照射装置に係るもので、水中に浸されている等の環境にあっても、被加熱表面を、レーザービームの焦点移動を生じさせることなく、確実かつ簡単に加熱する。【構成】 照射筒の内部に配されるレーザービーム伝送路と、照射筒の内部に配されレーザービームの方向を外側方に屈曲させる反射ミラーと、照射筒にその内部と液密状態に配され反射ミラーを経由したレーザービームを伝送しかつ被加熱表面に近接させられる平面部を有する近接ヘッドとを具備する。
Claim (excerpt):
被加熱表面にレーザービームを照射して加熱を行なう装置であって、被加熱表面の近傍に挿入される照射筒と、該照射筒の内部にレーザービーム伝送路と交差状態に配されレーザービームの方向を外側方に屈曲させる反射ミラーと、照射筒にその内部と液密状態に配され反射ミラーを経由したレーザービームを伝送しかつ被加熱表面に近接させられる平面部を有する近接ヘッドとを具備することを特徴とするレーザー照射装置。
IPC (3):
B23K 26/06 ,  B23K 26/00 ,  B23K 26/12
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (4)
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Cited by examiner (3)
  • 管内表面の改質方法及び装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平4-053846   Applicant:株式会社日立製作所
  • 特開平3-142096
  • 特開平3-142096

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