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J-GLOBAL ID：200903040365727101

排ガス処理方法および排ガス処理装置

Inventor： 山嵜 和幸 ,  坂田 和之 ,  中條 数美 ,  今津 史郎
Applicant, Patent owner： シャープ株式会社
Agent (2)： 山崎 宏 ,  前田 厚司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006033784
Publication number (International publication number)：2007209922
Application date： Feb. 10, 2006
Publication date： Aug. 23, 2007
Summary：

【課題】イニシャルコストやランニングコストが低くて、排ガス中の有機物等の排ガス成分を充分に除去できる排ガス処理方法および排ガス処理装置を提供する。【解決手段】この排ガス処理装置では、マイクロナノバブル発生機9がマイクロナノバブルを発生して下部処理部3で洗浄水にマイクロナノバブルを含有させる。マイクロナノバブルを含有している洗浄水中に、ブロワー19に吸い込んだ排ガスを散気管23から吐出する。収容籠12内に炭15が収容されていて、散気管23が吐出する排ガスは炭15に接触し、炭15が持つ有機物吸着力、炭15の表面に繁殖した微生物28による微生物処理、マイクロナノバブルによる吸着機能によって、排ガス成分が処理される。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

マイクロナノバブルを含有する液体中に排ガスを吐出させる工程を備えることを特徴とする排ガス処理方法。

IPC (3)：

B01D 53/44 ,  B01D 53/77 ,  B01D 53/34

FI (2)：

B01D53/34 117D ,  B01D53/34

F-Term (18)：

4D002AA40 ,  4D002AB03 ,  4D002AC10 ,  4D002BA02 ,  4D002BA04 ,  4D002BA17 ,  4D002CA01 ,  4D002CA06 ,  4D002CA07 ,  4D002DA35 ,  4D002DA41 ,  4D002DA59 ,  4D002EA07 ,  4D002GA02 ,  4D002GA03 ,  4D002GB01 ,  4D002GB02 ,  4D002HA01

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• ガス処理装置およびガス処理方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-391525   Applicant：三菱電機株式会社