ガス処理装置およびガス処理方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (4)：竹中岑生 , 大岩増雄 , 児玉俊英 , 村上啓吾
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003391525
Publication number (International publication number)：2005152701
Application date： Nov. 21, 2003
Publication date： Jun. 16, 2005
Summary：

【課題】従来の可燃性を呈する炭化水素などの一般的にVOCと呼ばれるガスを処理する方法では、始動時に酸化触媒の入口付近の温度が触媒活性温度に達した段階で処理ガスを供給していたので、触媒全体が活性温度に達するまでの最初の数秒から数十秒間は処理ガスが酸化分解されずに放出されること、すなわち始動時に未処理ガスがスリップする問題があった。【解決手段】被処理ガス10を通流する流路2と、この流路の上流側に配設された被処理ガスを通流する第1の触媒層6Aと、この第1の触媒層の下流側に離間して設けられ該第1の触媒層を通過したガスを通流する第2の触媒層6Bと、始動時に上記第1の触媒層を少なくとも触媒活性温度以上に予備加熱するための加熱手段5とを備えるように構成したものである。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

被処理ガスを加熱された触媒に接触させて反応処理を行うガス処理装置において、被処理ガスを通流する流路と、この流路の上流側に配設された被処理ガスを通流する第1の触媒層と、この第1の触媒層の下流側に離間して設けられ該第1の触媒層を通過したガスを通流する第2の触媒層と、始動時に上記第1の触媒層を少なくとも触媒活性温度以上に予備加熱するための加熱手段とを備えたことを特徴とするガス処理装置。

IPC (1)：

B01D53/86

FI (1)：

B01D53/36 G

F-Term (5)：

4D048AA17 , 4D048AA18 , 4D048AB01 , 4D048CC32 , 4D048CC52

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

特開平4-071620
内燃機関用排気ガス浄化装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-011769 Applicant：松下電器産業株式会社
車両用排ガス浄化装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-040354 Applicant：株式会社ゼクセル

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