静電チャックの表面研磨方法

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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：下田容一郎 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994031846
Publication number (International publication number)：1995221168
Application date： Feb. 02, 1994
Publication date： Aug. 18, 1995
Summary：

【要約】【目的】誘電体層表面に砥粒によるスクラッチが生じることがないように研磨する。【構成】仕上げ研磨は、剛性の高い研磨盤5に、誘電体層2を構成する材料よりも軟らかい砥粒、例えばSiO2砥粒を含む研磨液6を供給しながら研磨する。

Claim (excerpt)：

静電チャックの誘電体層表面を誘電体層よりも軟らかい砥粒で研磨することで局部的に高温・高圧状態として誘電体層を構成する物質と砥粒を構成する物質との反応物を化学的に生成せしめ、少なくともこの反応物またはこの反応物を分解した後に得られる生成物を機械的に誘電体層表面から除去するようにしたことを特徴とする静電チャックの表面研磨方法。

IPC (5)：

H01L 21/68 , B24B 37/04 , H01L 21/3065 , H01L 21/304 321 , H02N 13/00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

メカノケミカル研摩用研摩剤、および材料片を研摩する方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-260086 Applicant：ビューラーリミテッド
静電チヤツク装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-164231 Applicant：日本特殊陶業株式会社, 日本真空技術株式会社

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