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J-GLOBAL ID：200903040620278006

ポジ型レジスト組成物

Inventor： 大森 克実 ,  湯川 博人 ,  山崎 晃義 ,  谷 和夫 ,  木下 洋平 ,  山田 知孝
Applicant, Patent owner： 東京応化工業株式会社
Agent (1)： 阿形 明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999154908
Publication number (International publication number)：2000347405
Application date： Jun. 02, 1999
Publication date： Dec. 15, 2000
Summary：

【要約】【課題】 露光前後のアルカリに対する溶解性の変化が大きく、高コントラストであって、解像度及び焦点深度幅が良好なKrFエキシマレーザー用ポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】 (A)(イ)ヒドロキシ(α-メチル)スチレン単位、(ロ)スチレン単位及び(ハ)一般式【化1】(R1は水素原子又はメチル基、R2は低級アルキル基)で表わされる単位を含む共重合体からなる、酸の作用によりアルカリに対する溶解性が増大する樹脂及び(B)酸発生剤を含有してなるポジ型レジスト組成物とする。

Claim (excerpt)：

(A)(イ)ヒドロキシスチレン単位又はヒドロキシ-α-メチルスチレン単位、(ロ)スチレン単位及び(ハ)一般式【化1】(式中のR1は水素原子又はメチル基、R2は低級アルキル基である)で表わされる単位を含む共重合体からなる、酸の作用によりアルカリに対する溶解性が増大する樹脂及び(B)放射線の照射により酸を発生する化合物を含有してなるポジ型レジスト組成物。

IPC (2)：

G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (2)：

G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (18)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA11 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025CB13 ,  2H025CB14 ,  2H025CB16 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CB52 ,  2H025CC01 ,  2H025CC20 ,  2H025FA15

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• ポジ型フォトレジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-082407   Applicant：富士写真フイルム株式会社