Pat
J-GLOBAL ID：200903040636556545

反応装置

Inventor：
堀田 隆

About 堀田 隆


Applicant, Patent owner：
日立マクセル株式会社

About 日立マクセル株式会社


Agent (1)： 折寄 武士
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004118726
Publication number (International publication number)：2005300396
Application date： Apr. 14, 2004
Publication date： Oct. 27, 2005
Summary：
【課題】磁気ビーズの外表面全体を有効に使って検体を吸着できる反応装置を得る。【解決手段】検体16が移動する主流路1および副流路2を内部に配したデバイス3と、流路1・2内に収容されて検体16に対する親和性を有する多数の磁気ビーズ10と、デバイス3を挟んで向かい合う一対の電磁石5・6と、各電磁石5・6を流路1・2に臨ませた状態で流路1・2に沿って移動させる移動手段7と、各電磁石5・6の磁力の発生を制御する制御手段9とを含んでいる。制御手段9は、各電磁石5・6での磁力の発生が交互に行なわれるようにする。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
検体が移動する流路を内部に配したデバイスと、前記流路内に収容されて前記検体に対する親和性を有する多数の磁気ビーズと、前記デバイスを挟んで向かい合う一対の電磁石と、前記各電磁石を前記流路に臨ませた状態で前記流路に沿って移動させる移動手段と、前記各電磁石での磁力の発生を制御する制御手段とを含んでおり、 前記制御手段は、前記各電磁石での磁力の発生を交互に行なうことを特徴とする反応装置。
IPC (4)：
G01N1/00 ,  B01J19/00 ,  C12M1/00 ,  G01N1/28
FI (5)：
G01N1/00 101A ,  B01J19/00 321 ,  C12M1/00 A ,  G01N1/28 J ,  C12N15/00 A
F-Term (22)：
2G052CA03 ,  2G052CA07 ,  2G052DA09 ,  2G052JA03 ,  2G052JA07 ,  4B024AA11 ,  4B024CA01 ,  4B024CA11 ,  4B029AA07 ,  4B029BB20 ,  4B029FA15 ,  4G075AA02 ,  4G075AA37 ,  4G075AA61 ,  4G075BB04 ,  4G075CA51 ,  4G075CA54 ,  4G075DA02 ,  4G075EB01 ,  4G075EC25 ,  4G075EE05 ,  4G075FC20
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (5)
Show all
Cited by examiner (3)

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM