Pat
J-GLOBAL ID:200903040835057434
水素ガス検出装置
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
間瀬 ▲けい▼一郎
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005003604
Publication number (International publication number):2006194601
Application date: Jan. 11, 2005
Publication date: Jul. 27, 2006
Summary:
【課題】 湿度センサに依存することなく、水蒸気の飽和状態或いはこの飽和状態に近い状態にある被検出ガス雰囲気内の水素ガスの濃度を精度よく検出するようにした水素ガス検出装置を提供する。【解決手段】 水蒸気の飽和状態にある被検出ガス雰囲気内にて検出装置本体1000による水素ガスの検出濃度を補正するための補正係数βと温度センサ2000の検出温度との間の極大値を有する2次曲線関係を用いて、マイクロコンピュータ3000により、検出装置本体1000による水素ガスの検出濃度を温度センサ2000の検出温度に基づき補正する。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
プロトン伝導層を有する検出装置本体を備えて、水蒸気の飽和状態或いはこの飽和状態に近い状態にある被検出ガス雰囲気内に前記検出装置本体を配置した状態でプロトンが前記被検出ガス雰囲気に含まれる水素ガスに応じ前記プロトン伝導層を伝導することにより生ずる電流に基づき前記水素ガスの濃度を前記検出装置本体により検出するようにした水素ガス検出装置において、
前記水蒸気の飽和状態或いはこの飽和状態に近い状態にある被検出ガス雰囲気の温度を検出する温度センサと、
前記水蒸気の飽和状態或いはこの飽和状態に近い状態にある被検出ガス雰囲気内にて前記検出装置本体の検出濃度が前記温度センサの検出温度の上昇(或いは低下)に伴い増大(或いは減少)するという所定の関係を用いて、前記検出装置本体の検出濃度を前記温度センサの検出温度に基づき補正する補正手段とを備えることを特徴とする水素ガス検出装置。
IPC (1):
FI (1):
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
-
ガス濃度検出器及びガス濃度測定方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-333421
Applicant:日本特殊陶業株式会社
Return to Previous Page