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J-GLOBAL ID：200903040835086167

荷電粒子ビーム出射方法

Inventor：
平本 和夫

About 平本 和夫


Applicant, Patent owner：
株式会社日立製作所

About 株式会社日立製作所


Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998294900
Publication number (International publication number)：2000124000
Application date： Oct. 16, 1998
Publication date： Apr. 28, 2000
Summary：
【要約】【課題】簡単な制御で荷電粒子ビームを出射できる荷電粒子ビーム出射方法を提供することにある。【解決手段】シンクロトロン1内を周回する荷電粒子ビームに高周波印加装置11により高周波電磁場を印加することにより、シンクロトロン1から荷電粒子ビームを出射する場合に、シンクロトロン1から出射する荷電粒子ビームのエネルギーに基づいて、高周波印加装置11が発生する高周波電磁場の強度を制御する。
Claim (excerpt)：
加速器内を周回する荷電粒子ビームに高周波電磁場を印加することにより、加速器から荷電粒子ビームを出射する荷電粒子ビーム出射方法において、加速器から出射する荷電粒子ビームのエネルギーに基づいて、前記高周波電磁場の強度を設定することを特徴とする荷電粒子ビーム出射方法。
FI (2)：
H05H 13/04 G ,  H05H 13/04 Q
F-Term (12)：
2G085AA13 ,  2G085AA16 ,  2G085BA06 ,  2G085BA09 ,  2G085BA14 ,  2G085BC01 ,  2G085BC08 ,  2G085BC11 ,  2G085BC20 ,  2G085CA21 ,  2G085CA22 ,  2G085DA08
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2) Cited by examiner (2)

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