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J-GLOBAL ID：200903040865992383

無機酸化物周期構造体

Inventor：
深澤 憲正

About 深澤 憲正

, 
金 仁華

About 金 仁華


Applicant, Patent owner：
財団法人川村理化学研究所

About 財団法人川村理化学研究所


Agent (1)： 高橋 勝利
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005025026
Publication number (International publication number)：2006213534
Application date： Feb. 01, 2005
Publication date： Aug. 17, 2006
Summary：
【課題】 均一な三次元周期を持って配列した細孔を有し、構造安定性及び耐薬品性に優れた強固な構造を有する無機酸化物周期構造体、およびこれら構造体の簡便な製造方法を提供すること。【解決手段】 無機酸化物の構造体中に、孔径が20nm〜10μmの範囲にある細孔が三次元周期を持って配列し、隣接する細孔の中心間を結ぶ線上の無機酸化物厚さが5nm〜10μmの範囲にある無機酸化物周期構造体、及び有機高分子化合物微粒子をコア部、架橋した親水性有機高分子化合物をシェル部として有するコア-シェル粒子を、水系溶媒に分散させたゾルを得る工程、該ゾルに金属系アルコキシドを加えてゾル-ゲル反応させ、架橋した親水性有機高分子化合物と、生成する無機酸化物とが一体化された複合体中に、前記コア部が三次元周期を持って配列した構造体を得る工程、該構造体を焼結して無機酸化物周期構造体を得る工程からなる製造方法。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
無機酸化物の構造体中に、孔径が20nm〜10μmの範囲にある細孔が三次元周期を持って配列し、隣接する細孔の中心間を結ぶ線上の無機酸化物厚さが5nm〜10μmの範囲にある無機酸化物周期構造体。
IPC (6)：
C01B 13/32 ,  B82B 1/00 ,  B82B 3/00 ,  C01B 33/12 ,  C01G 23/04 ,  G02B 1/02
FI (6)：
C01B13/32 ,  B82B1/00 ,  B82B3/00 ,  C01B33/12 C ,  C01G23/04 Z ,  G02B1/02
F-Term (24)：
4G042DB12 ,  4G042DB31 ,  4G042DC03 ,  4G042DD02 ,  4G042DE09 ,  4G042DE14 ,  4G047CA10 ,  4G047CB05 ,  4G047CB06 ,  4G047CC03 ,  4G047CD04 ,  4G072AA41 ,  4G072BB05 ,  4G072DD05 ,  4G072FF01 ,  4G072GG02 ,  4G072HH30 ,  4G072JJ08 ,  4G072JJ34 ,  4G072MM02 ,  4G072MM36 ,  4G072TT08 ,  4G072UU01 ,  4G072UU03
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3) Cited by examiner (6)
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Article cited by the Patent：
Cited by examiner (1)

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