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J-GLOBAL ID:200903041019728599
高周波加熱装置
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
,
Agent (2):
宮田 金雄
, 高瀬 彌平
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003050708
Publication number (International publication number):2004259646
Application date: Feb. 27, 2003
Publication date: Sep. 16, 2004
Summary:
【課題】高周波加熱による被加熱物の加熱ムラを解消する高周波加熱装置を得る。【解決手段】加熱室1と、高周波を発振する高周波発振器3と、高周波発振器3から発振する高周波を加熱室1に伝搬する導波管5と、導波管5内に回転軸6a、6bを有し高周波を加熱室1内に放射させる2つの回転アンテナ7a、7bとを備え、2つの回転アンテナ7a、7bの回転速度を互いに異ならせるように制御する制御手段10を設けたものである。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
加熱室と、高周波を発振する高周波発振器と、高周波発振器から発振する高周波を前記加熱室に伝搬する導波管と、前記導波管内に回転軸を有し高周波を前記加熱室内に放射させる2つの回転アンテナとを備え、前記2つの回転アンテナの回転速度を互いに異ならせるように制御することを特徴とする高周波加熱装置。
IPC (4):
H05B6/74
, H05B6/68
, H05B6/70
, H05B6/72
FI (4):
H05B6/74 F
, H05B6/68 320Q
, H05B6/70 E
, H05B6/72 A
F-Term (16):
3K086AA01
, 3K086BA08
, 3K086CA02
, 3K086CB04
, 3K086CC20
, 3K086CD11
, 3K090AA01
, 3K090AA04
, 3K090AB02
, 3K090BA01
, 3K090BB07
, 3K090BB17
, 3K090CA02
, 3K090DA01
, 3K090DA08
, 3K090DA18
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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特開平3-173094
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高周波加熱装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-214355
Applicant:三洋電機株式会社
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電子レンジのマイクロ波分散装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-223465
Applicant:三星電子株式会社
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特開昭52-101741
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電子レンジ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-365667
Applicant:三洋電機株式会社
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