Pat

J-GLOBAL ID：200903041057773778

位相シフト・マスクの検査方法及びそれを実施する装置

Inventor： 羽入 勇 ,  浅井 了
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 柏谷 昭司 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992011636
Publication number (International publication number)：1993204133
Application date： Jan. 27, 1992
Publication date： Aug. 13, 1993
Summary：

【要約】【目的】 位相シフト・マスクの検査方法及びそれを実施する装置に関し、簡単な手段に依って、位相シフト・マスクに於ける膜厚に起因する欠陥を容易に検出できるようにしようとする。【構成】 位相シフト・マスクである光学マスク11の表面に例えば波長λ1 の光を照射することで得られた同じ波長λ1 の反射光の強度を第一の光強度検出器8で検出し、同じ光学マスク11の裏面に前記波長λ1 と異なる例えば波長λ2 の光を照射することで得られた同じ波長λ2 の透過光の強度を第二の光強度検出器9で検出し、その検出された信号を信号処理装置10に於いて処理し、光学マスク11上に形成されている位相シフタの膜厚を知得するようにしている。

Claim (excerpt)：

位相シフト・マスクである光学マスクの表面に照射された波長λ1 の光の反射光の強度と同じく裏面に照射された波長λ2 の光の透過光の強度とを検出し、その検出された信号から光学マスク上に形成されている位相シフタの膜厚を検出することを特徴とする位相シフト・マスクの検査方法。

IPC (3)：

G03F 1/08 ,  G01B 11/06 ,  H01L 21/027

FI (3)：

H01L 21/30 301 P ,  H01L 21/30 311 L ,  H01L 21/30 311 W

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• マスク検査装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-308238   Applicant：株式会社ニコン
• 特開平4-318550