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J-GLOBAL ID:200903041147305633

非晶質硬質炭素膜及びその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 村井 卓雄
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000135366
Publication number (International publication number):2001316819
Application date: May. 09, 2000
Publication date: Nov. 16, 2001
Summary:
【要約】【課題】 高強度、高密着性かつ低摩擦係数の非晶質硬質炭素膜及びその製造方法を提供することにある。【解決手段】 炭素と水素を主成分とする非晶質炭素膜であって、膜中に金属酸化物を含有したことを特徴とする。この金属酸化物はSi,Ti,B及びWからなる群から選ばれた少なくとも1種以上の元素の酸化物を含むものである。
Claim (excerpt):
炭素と水素を主成分とする非晶質炭素膜であって、膜中に金属酸化物を含有したことを特徴とする非晶質硬質炭素膜。
IPC (2):
C23C 16/26 ,  C01B 31/02 101
FI (2):
C23C 16/26 ,  C01B 31/02 101 Z
F-Term (13):
4G046CA02 ,  4G046CB03 ,  4G046CB08 ,  4G046CC06 ,  4K030AA06 ,  4K030AA09 ,  4K030AA14 ,  4K030BA27 ,  4K030BB05 ,  4K030CA02 ,  4K030LA01 ,  4K030LA22 ,  4K030LA23
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)

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