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J-GLOBAL ID：200903041313519329

光学的検査方法及び装置

Inventor：
エマヌエル・エリアサフ

About エマヌエル・エリアサフ

, 
ヤイール・エラン

About ヤイール・エラン


Applicant, Patent owner：
オーボット・インストゥルメンツ・リミテッド

About オーボット・インストゥルメンツ・リミテッド


Agent (1)： 社本 一夫 (外5名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997186159
Publication number (International publication number)：1998123059
Application date： Jul. 11, 1997
Publication date： May. 15, 1998
Summary：
【要約】【課題】 透過光と反射光とを用いた光学的検査装置を提供すること。【解決手段】 フォトマスクPMを光学的に検査してその状態を指示する装置は、フォトマスクPMの一方の面から周期的に光を反射させて一連の短時間の反射光を生成し、且つ、フォトマスクPMに周期的に光を透過させて一連の短時間の透過光を前記反射光と時間的にずらせて生成する光学系4、12を備える。センサ20はこれらの反射光及び透過光を受け取り、それに対応した出力をプロセッサ32に与える。プロセッサ32はフォトマスクPMの状態の指示を与える。
Claim (excerpt)：
第1の面と第2の面とを有する対象物を光学的に検査して該対象物の状態を表示する方法であって、前記対象物の前記第1の面から周期的に光線を反射させ、一連の時間的に離れた短時間の反射光を生成するステップと、前記対象物に光線を周期的に透過させ、一連の時間的に離れた且つ前記反射光と時間的に交互に配置された短時間の透過光を生成するステップと、前記の短時間の反射光と透過光とを感知し、それに対応した電気出力を発生するステップと、前記電気出力を処理し、前記対象物の状態の表示を提供するステップと、を有する方法。
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
  • 欠陥検査装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-226509   Applicant：株式会社東芝
  • 異物検査装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-104378   Applicant：株式会社ニコン
  • 特開平4-339244
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