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J-GLOBAL ID：200903041317812446

X線マスクおよびその製造方法

Inventor： 吉原 拓也
Applicant, Patent owner： 日本電気株式会社
Agent (1)： 鈴木 章夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997181975
Publication number (International publication number)：1998079347
Application date： Jul. 08, 1997
Publication date： Mar. 24, 1998
Summary：

【要約】【課題】 X線マスクに形成されるマスクパターンとしてのX線吸収体は、プロセスにおいて表面酸化されるため、酸化によりX線吸収体に内部応力が発生し、パターン位置やパターン寸法に変動が生じる、高精度のX線マスクが得られない。【解決手段】 Siからなる支持枠2上にSiC等のX線透過膜3が形成され、このX線透過膜3上に所要のパターンに形成されるX線吸収体からなるマスクパターン5AがTaO等の酸化物で形成される。X線吸収体の成膜時やパターン形成時にX線吸収体が酸化されることがなく、酸化による応力がX線吸収体に生じることがない。これにより、高精度なパターン位置やパターン寸法を有するX線マスクが得られる。

Claim (excerpt)：

X線透過膜上に選択的に形成されたマスクパターンとしてのX線吸収体を有するX線マスクにおいて、前記X線吸収体が酸化物で形成されていることを特徴とするX線マスク。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/16

FI (2)：

H01L 21/30 531 M ,  G03F 1/16 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平4-010616
  
• 特開平2-002109
  
• X線マスクの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-335120   Applicant：三菱電機株式会社
• 特開平2-151015