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J-GLOBAL ID:200903041343238626

IgE抗体産生低減剤およびアレルギー体質改善剤

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 戸田 親男
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000098294
Publication number (International publication number):2001288093
Application date: Mar. 31, 2000
Publication date: Oct. 16, 2001
Summary:
【要約】【解決手段】 ラフィノースを有効成分とするIgE抗体産生低減剤およびアレルギー体質改善剤。【効果】 IgE抗体産生を低減することによって、アレルギーの予防/治療ができるだけでなく、IL-12、IFN-γの産生を増強することにより、Th1/Th2細胞バランスを是正し、アレルギー体質を改善することができる。
Claim (excerpt):
ラフィノースを有効成分として含有すること、を特徴とするアレルギー体質改善剤。
IPC (5):
A61K 31/702 ,  A23L 1/30 ,  A61P 37/08 ,  A61P 43/00 111 ,  C07H 3/06
FI (6):
A61K 31/702 ,  A23L 1/30 Z ,  A23L 1/30 B ,  A61P 37/08 ,  A61P 43/00 111 ,  C07H 3/06
F-Term (12):
4B018MD31 ,  4B018ME07 ,  4C057BB04 ,  4C057CC01 ,  4C086AA01 ,  4C086AA02 ,  4C086EA01 ,  4C086MA01 ,  4C086MA04 ,  4C086NA14 ,  4C086ZB13 ,  4C086ZC02
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2) Cited by examiner (2)
Article cited by the Patent:
Cited by applicant (2) Cited by examiner (3)

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