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J-GLOBAL ID：200903041355684494

光学素子の製造方法

Inventor： 二宮 正伸 ,  明石 量磁郎
Applicant, Patent owner： 富士ゼロックス株式会社
Agent (1)： 渡部 剛
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994072949
Publication number (International publication number)：1995261139
Application date： Mar. 18, 1994
Publication date： Oct. 13, 1995
Summary：

【要約】【目的】 表示特性や調光特性等の光学特性や、記録/消去の再現性、表示の均一性を大幅に高めた、少なくとも高分子液晶からなる光散乱性組成物を用いた光学素子の製造方法を提供する。【構成】 高分子液晶組成物を熱処理することによって、マルチドメイン構造を制御し、該マルチドメイン構造を保持した状態で該組成物を架橋させて、光学素子を製造する。その際、熱処理は高分子液晶組成物が液晶相を示す温度で行うのが好ましく、架橋は高分子液晶組成物の液晶相-等方相相転移温度以下の温度で架橋を行うのが好ましい。また、得られる光学素子において、マルチドメイン構造におけるドメイン分布数の極大におけるドメイン径は、3μm以下、特に200nm〜1500nmであるのが好ましい。

Claim (excerpt)：

高分子液晶組成物を熱処理することによって、マルチドメイン構造を制御し、該マルチドメイン構造を保持した状態で該組成物を架橋させることを特徴とする光学素子の製造方法。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 液晶表示素子
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-272058   Applicant：住友電気工業株式会社
• 可逆性表示媒体
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-305893   Applicant：富士ゼロックス株式会社
• 液晶複合膜およびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-058743   Applicant：住友電気工業株式会社