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J-GLOBAL ID：200903041383758460

窒化ガリウム系半導体装置

Inventor：
布上 真也

About 布上 真也

, 
山本 雅裕

About 山本 雅裕


Applicant, Patent owner：
株式会社東芝

About 株式会社東芝


Agent (1)： 外川 英明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998292684
Publication number (International publication number)：2000124500
Application date： Oct. 15, 1998
Publication date： Apr. 28, 2000
Summary：
【要約】【課題】従来のGaN系半導体装置においては、基板と成長層の界面で発生した転位が、成長方向へ伝播しやすく、成長層表面まで達するために、大電流密度の注入により装置の信頼性を低下させるという問題があった。【解決手段】少なくとも活性層と基板との間に、周期的な凸部を有する界面を再成長により形成する。周期的な凸部を形成することにより、凸部側壁の成長が生じ、横方向への成長を積極的に利用することができる。この横方向への成長速度は、基板に対して垂直方向の成長速度より格段に速く、この界面において転位は横方向へ曲がる。このため、上部の層まで伝播する転位密度を低減することができる。
Claim (excerpt)：
基板上に形成された窒化ガリウム系半導体装置において、前記基板と前記窒化ガリウム系半導体装置との間に、凸部を備える転位伝播防止層を具備し、かつ前記凸部側壁には単結晶面が露出してなることを特徴とする窒化ガリウム系半導体装置。
IPC (2)：
H01L 33/00 ,  H01S 5/323
FI (2)：
H01L 33/00 C ,  H01S 3/18 673
F-Term (24)：
5F041AA40 ,  5F041CA04 ,  5F041CA05 ,  5F041CA23 ,  5F041CA34 ,  5F041CA40 ,  5F041CA46 ,  5F041CA49 ,  5F041CA57 ,  5F041CA65 ,  5F041CA73 ,  5F041CA74 ,  5F041CA75 ,  5F073AA51 ,  5F073AA55 ,  5F073AA74 ,  5F073CA02 ,  5F073CA07 ,  5F073CB05 ,  5F073CB07 ,  5F073CB14 ,  5F073DA05 ,  5F073DA21 ,  5F073EA29
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3) Cited by examiner (3)

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