レジスト溶液の調製方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：阿形明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995069945
Publication number (International publication number)：1996262698
Application date： Mar. 28, 1995
Publication date： Oct. 11, 1996
Summary：

【要約】【構成】アルカリ可溶性樹脂、キノンジアジド基含有化合物及び有機溶剤を混合して成る混合物を、得られるレジスト溶液の波長500nmにおける吸光度が0.05〜0.75の範囲内となるまで、75〜85°Cの温度に加熱するレジスト溶液の調製方法である。【効果】長期間保存しても微粒子などの発生が抑えられ、極めて長期保存安定性に優れ、高い歩留まりが要求される電子部品の製造に好適に用いられるレジスト溶液を容易に調製することができる。

Claim (excerpt)：

アルカリ可溶性樹脂、キノンジアジド基含有化合物及び有機溶剤を混合し、次いでこの混合物を、波長500nmにおける吸光度が0.05〜0.75の範囲内になるまで、75〜85°Cの温度に加熱することを特徴とするレジスト溶液の調製方法。

IPC (3)：

G03F 7/004 , G03F 7/022 , H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/004 , G03F 7/022 , H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

感放射線性樹脂組成物の調製法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-043016 Applicant：住友化学工業株式会社
特開昭63-113451
特開昭64-070746

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