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J-GLOBAL ID：200903041564820109

ブラックマトリックス構造

Inventor：
三輪 一典

About 三輪 一典


Applicant, Patent owner：
アテリオデザイン株式会社

About アテリオデザイン株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004122495
Publication number (International publication number)：2005308847
Application date： Apr. 19, 2004
Publication date： Nov. 04, 2005
Summary：
【課題】クロムを用いなくても薄い膜厚で遮光性の高い、安全なブラックマトリックスを実現する。【解決手段】金属遮光膜と少なくとも一対の透明体薄膜と吸収体島状膜による光干渉膜によって、可視光全域に渡る反射率を低減する。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
金属遮光膜と、前記金属遮光膜上に形成された少なくとも一対の透明体薄膜と吸収体島状膜による光干渉膜によって構成することを特徴とするブラックマトリックス構造。
IPC (2)：
G02B5/20 ,  G02F1/1335
FI (2)：
G02B5/20 101 ,  G02F1/1335 500
F-Term (20)：
2H048BA03 ,  2H048BA11 ,  2H048BA53 ,  2H048BB00 ,  2H048BB42 ,  2H091FA35Y ,  2H091FB02 ,  2H091FB06 ,  2H091FB08 ,  2H091FB13 ,  2H091FC02 ,  2H091FC10 ,  2H091FC12 ,  2H091FC26 ,  2H091FD06 ,  2H091GA01 ,  2H091KA01 ,  2H091KA10 ,  2H091LA12 ,  2H091LA16
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
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