Pat
J-GLOBAL ID:200903041751573042
反射防止材料
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999221318
Publication number (International publication number):2001048590
Application date: Aug. 04, 1999
Publication date: Feb. 20, 2001
Summary:
【要約】【課題】 反射防止材料において、反射防止性を損なうことなく、表面にごみや指紋等が付着しにくく、また付着しても容易に拭き取ることができ、かつ、かかる防汚効果の耐久性に優れた防汚層が設けられた反射防止材料を提供する。【解決手段】 透明基体上に低屈折率層および防汚層を順次積層した反射防止材料において、該低屈折率層はゾルゲル法により形成されるシリカ膜であり、かつ、該防汚層は少なくともパーフルオロアルキルエーテル化合物を含有することを特徴とする反射防止材料。
Claim (excerpt):
透明基体上に、少なくとも低屈折率層および防汚層を順次積層した反射防止材料であって、該低屈折率層はゾルゲル法により形成されるシリカ膜であり、かつ、該防汚層は少なくともパーフルオロアルキルエーテル化合物を含有することを特徴とする反射防止材料。
IPC (7):
C03C 17/28
, C03C 17/30
, G02B 1/11
, G02B 1/10
, G09F 9/00 313
, B32B 7/02 103
, C09K 3/00 112
FI (7):
C03C 17/28 A
, C03C 17/30 B
, G09F 9/00 313
, B32B 7/02 103
, C09K 3/00 112 E
, G02B 1/10 A
, G02B 1/10 Z
F-Term (44):
2K009AA03
, 2K009BB24
, 2K009CC09
, 2K009CC21
, 2K009DD02
, 2K009DD06
, 2K009EE05
, 4F100AA20B
, 4F100AH05H
, 4F100AJ06
, 4F100AS00D
, 4F100AT00A
, 4F100BA03
, 4F100BA04
, 4F100BA07
, 4F100BA10A
, 4F100BA10C
, 4F100EH46
, 4F100EH462
, 4F100EJ08
, 4F100EJ082
, 4F100GB41
, 4F100JL06
, 4F100JL06C
, 4F100JN01A
, 4F100JN06
, 4F100JN18
, 4F100JN18B
, 4F100YY00C
, 4F100YY00H
, 4G059AA01
, 4G059AC04
, 4G059AC22
, 4G059EA05
, 4G059EB07
, 4G059GA01
, 4G059GA04
, 4G059GA16
, 5G435AA00
, 5G435AA01
, 5G435AA14
, 5G435HH02
, 5G435HH03
, 5G435KK07
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
-
表示装置用フィルター及び表示装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-276703
Applicant:ソニー株式会社
-
低反射ガラス
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-140796
Applicant:セントラル硝子株式会社
-
表面改質膜用組成物、表面改質膜、表示装置用フィルター及び表示装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-276315
Applicant:ソニー株式会社
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