ナノポーラス体及びその製造方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：高石橘馬
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004179610
Publication number (International publication number)：2005162596
Application date： Jun. 17, 2004
Publication date： Jun. 23, 2005
Summary：

【課題】ナノメータレベルの孔径の微細孔を有するとともに、粉状又は粒状のナノポーラス体を効率よく低コストで製造する方法を提供する。【解決手段】無機材料からなる骨格構造中にナノメータレベルの孔径を有する微細孔が形成されたナノポーラス体の製造方法において、(a) 金属アルコキシド及び/又はその重縮合物と、界面活性剤と、水及びアルコールからなる溶媒と、酸とを含有する反応溶液中で、前記金属アルコキシド及び/又は前記重縮合物を加水分解する工程、及び(b) 得られた加水分解物溶液の溶媒を揮発させる工程を含む方法及びナノポーラス体。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

無機材料からなる骨格構造中にナノメータレベルの孔径を有する微細孔が形成されたナノポーラス体の製造方法において、(a) 金属アルコキシド及び/又はその重縮合物と、界面活性剤と、水及びアルコールからなる溶媒と、酸とを含有する反応溶液中で、前記金属アルコキシド及び/又は前記重縮合物を加水分解する工程、及び(b) 得られた加水分解物溶液の溶媒を揮発させる工程を含むことを特徴とする方法。

IPC (7)：

C01B37/02 , B01J20/06 , B01J20/08 , B01J20/10 , B01J20/28 , B01J20/30 , B01J29/035

FI (7)：

C01B37/02 , B01J20/06 A , B01J20/08 A , B01J20/10 A , B01J20/28 A , B01J20/30 , B01J29/035 M

F-Term (125)：

4G066AA12D , 4G066AA16D , 4G066AA18D , 4G066AA19D , 4G066AA20B , 4G066AA20D , 4G066AA21D , 4G066AA22B , 4G066AA22D , 4G066AA23B , 4G066AA23D , 4G066AA24D , 4G066AA25D , 4G066AA26D , 4G066AA27D , 4G066AB13D , 4G066AB23A , 4G066AC21A , 4G066BA24 , 4G066BA31 , 4G066BA36 , 4G066CA43 , 4G066CA51 , 4G066FA03 , 4G066FA05 , 4G066FA22 , 4G066FA34 , 4G066FA36 , 4G066FA37 , 4G069AA03 , 4G069BA02A , 4G069BA02B , 4G069BA21B , 4G069BC10A , 4G069BC16A , 4G069BC17A , 4G069BC22A , 4G069BC23A , 4G069BC35A , 4G069BC50A , 4G069BC51A , 4G069BC52A , 4G069BC54A , 4G069BC55A , 4G069BC56A , 4G069BC58A , 4G069BC62A , 4G069BC66A , 4G069BC67A , 4G069BC68A , 4G069BD03A , 4G069BD05A , 4G069BD07A , 4G069BE22B , 4G069CB25 , 4G069CB59 , 4G069CB62 , 4G069EC13X , 4G069EC14X , 4G069EC25 , 4G073AA03 , 4G073BA10 , 4G073BA20 , 4G073BA21 , 4G073BA22 , 4G073BA24 , 4G073BA25 , 4G073BA26 , 4G073BA28 , 4G073BA32 , 4G073BA36 , 4G073BA40 , 4G073BA44 , 4G073BA52 , 4G073BA57 , 4G073BA58 , 4G073BA63 , 4G073BA64 , 4G073BA65 , 4G073BA81 , 4G073BB03 , 4G073BB04 , 4G073BB07 , 4G073BB15 , 4G073BB18 , 4G073BB24 , 4G073FB01 , 4G073FD13 , 4G073FD21 , 4G073FE03 , 4G073GA03 , 4G073GA19 , 4G073UA01 , 4G073UA06 , 4G169AA03 , 4G169BA02A , 4G169BA02B , 4G169BA21B , 4G169BC10A , 4G169BC16A , 4G169BC17A , 4G169BC22A , 4G169BC23A , 4G169BC35A , 4G169BC50A , 4G169BC51A , 4G169BC52A , 4G169BC54A , 4G169BC55A , 4G169BC56A , 4G169BC58A , 4G169BC62A , 4G169BC66A , 4G169BC67A , 4G169BC68A , 4G169BD03A , 4G169BD05A , 4G169BD07A , 4G169BE22B , 4G169CB25 , 4G169CB59 , 4G169CB62 , 4G169EC13X , 4G169EC14X , 4G169EC25

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

特開平4-238810号公報
特開平3-199118号公報

Cited by examiner (4)

結晶性チタニウムシリケートおよびその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-313077 Applicant：触媒化成工業株式会社
球状多孔質シリカ乃至シリカ金属複合体粒子及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-380760 Applicant：独立行政法人産業技術総合研究所, 水澤化学工業株式会社, 小菅勝典
メソポーラスシリケート及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-198026 Applicant：独立行政法人産業技術総合研究所

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Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

Synthesis of submillimeter-thick films of surfactant templated mesoporous silica

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