Pat
J-GLOBAL ID:200903041817111100
有機物除去方法および装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
鈴木 喜三郎 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999357955
Publication number (International publication number):2001176838
Application date: Dec. 16, 1999
Publication date: Jun. 29, 2001
Summary:
【要約】【課題】 マスクを形成することなく被処理部材の所望位置の有機物を容易に除去できるようにする。【解決手段】 有機物除去装置10は、吐出ヘッド部12がXYテーブル14に搭載してあって、被処理部材の面に沿って移動可能となっている。吐出ヘッド部12は、インクジェットプリンタのプリンタヘッドと同様に形成してあって、オゾン水などの処理液を吐出する複数の液体吐出口16が直線状または千鳥状に設けてある。吐出ヘッド部12とXYテーブル14とは、制御装置40によって制御され、被処理部材の所望の位置に処理液を吐出して塗布し、その部分の有機物を分解して除去できるようになっている。
Claim (excerpt):
有機物を分解可能な処理液を液体吐出手段により被処理部材の所望位置に吐出し、その位置の有機物を分解することを特徴とする有機物除去方法。
IPC (2):
FI (3):
B08B 3/08 A
, H01L 21/306 D
, H01L 21/306 R
F-Term (14):
3B201AA02
, 3B201AB53
, 3B201BB22
, 3B201BB44
, 3B201BB82
, 3B201BB89
, 3B201BB92
, 3B201BB98
, 3B201CB01
, 5F043AA37
, 5F043BB25
, 5F043DD07
, 5F043EE07
, 5F043EE36
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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画像形成方法、電子回路の製造方法、および該製造方法で製造された電子回路
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-018183
Applicant:三菱製紙株式会社
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特開平4-302144
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特開平4-302144
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基板処理方法および処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-316638
Applicant:クロリンエンジニアズ株式会社
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有機物の除去方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-012226
Applicant:株式会社日立製作所
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