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J-GLOBAL ID:200903041862333512

電解コンデンサおよびその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 青山 葆 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998154409
Publication number (International publication number):1999054374
Application date: Jun. 03, 1998
Publication date: Feb. 26, 1999
Summary:
【要約】【課題】 電解コンデンサの陰極である導電性高分子を、弁金属多孔体の空孔内部にまで均質で緻密な膜として形成し、容量達成率が高くかつ低インピーダンスで高周波応答性の良い電解コンデンサを提供する。【解決手段】 コンデンサ素子の空孔内部にまで導電性ポリマー層を形成するために化学酸化重合法を利用し、まず前処理として、有機酸系のドーパントを含有しない溶液中で重合反応を行うことにより、導電性ポリマー層を多孔体表面から空孔細部に至るまでの誘電体層上に緻密な膜に形成し、その後本処理として、有機酸系のドーパントを含む溶液中で重合反応を行って、先に形成した有機酸系のドーパントを含まない導電性ポリマー層の上に有機酸系のドーパントを含む導電性ポリマー層を形成成長させる。
Claim (excerpt):
陽極が弁金属の多孔体からなり、誘電体層が該弁金属の酸化物皮膜層で、陰極が導電性ポリマー層である電解コンデンサにおいて、前記導電性ポリマー層が、モノマーを溶液中で化学酸化重合させて成る有機酸系のドーパントを含む導電性ポリマー層であって、前記誘電体層上に緻密な膜状に形成されていることを特徴とする電解コンデンサ。
IPC (5):
H01G 9/028 ,  H01G 9/00 ,  C08G 61/10 ,  C08G 61/12 ,  C08G 73/00
FI (7):
H01G 9/02 331 F ,  C08G 61/10 ,  C08G 61/12 ,  C08G 73/00 ,  H01G 9/02 331 H ,  H01G 9/02 331 G ,  H01G 9/24 A
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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