Pat
J-GLOBAL ID：200903041972356100

テトラキス(アシロキシ)ボレート(1-)及び置換オニウムテトラキス(アシロキシ)ボレート(1-)の合成方法

Inventor：
永田 寛

About 永田 寛


Applicant, Patent owner：
住友ベークライト株式会社

About 住友ベークライト株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000364192
Publication number (International publication number)：2002167390
Application date： Nov. 30, 2000
Publication date： Jun. 11, 2002
Summary：
【要約】 (修正有)【課題】 合成における有機溶媒への溶解性がよく、イオン性不純物の残存がないテトラキス(アシロキシ)ボレート(1-)の合成方法を提供する。【解決手段】 ホウ酸、一般式2の無水カルボン酸及び一般式3のアミンを反応させ一般式1のテトラキス(アシロキシ)ボレート(1-)の合成方法。(R1はアルキル基、アリール基又はアラルキル基、R2〜R4はアルキル基、アリール基又はR2〜R4の3つのうち2つ以上が環を形成する置換基)(R1はアルキル基、アリール基又はアラルキル基)(R2〜R4はアルキル基、アリール基又はR2〜R4の3つのうち2つ以上が環を形成する基)
Claim (excerpt)：
一般式(1)で表されるテトラキス(アシロキシ)ボレート(1-)が、ホウ酸、一般式(2)で表される無水カルボン酸、一般式(3)で表されるアミンとを反応させて得られることを特徴とするテトラキス(アシロキシ)ボレート(1-)の合成方法。【化1】(R1はアルキル基、アリール基、アラルキル基からなる群より選ばれる基、R2〜R4は、アルキル基、アリール基又はR2〜R4の3つの置換基のうち少なくとも2つの置換基が環を形成する置換基)【化2】( R1はアルキル基、アリール基、アラルキル基からなる群より選ばれる基)【化3】( R2〜R4は、アルキル基、アリール基又はR2〜R4の3つの置換基のうち少なくとも2つの置換基が環を形成する基)
IPC (2)：
C07F 5/02 ,  C08G 59/68
FI (3)：
C07F 5/02 C ,  C07F 5/02 Z ,  C08G 59/68
F-Term (14)：
4H048AA02 ,  4H048AC90 ,  4H048BE90 ,  4H048VA20 ,  4H048VA30 ,  4H048VA75 ,  4H048VB10 ,  4J036AA01 ,  4J036GA01 ,  4J036GA06 ,  4J036JA07 ,  4J036JA08 ,  4J036JA09 ,  4J036JA10
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)
  • 樹脂組成物
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-340126   Applicant：住友ベークライト株式会社
  • リン系潜伏性触媒の合成法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-012488   Applicant：住友ベークライト株式会社
  • 特開平4-243882

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM