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J-GLOBAL ID：200903042075793251

ハニカム構造体とその製造方法及び用途、並びに加熱装置

Inventor：
小川 充茂

About 小川 充茂

, 
今村 保男

About 今村 保男


Applicant, Patent owner：
電気化学工業株式会社

About 電気化学工業株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996170958
Publication number (International publication number)：1998052618
Application date： Jul. 01, 1996
Publication date： Feb. 24, 1998
Summary：
【要約】【課題】可燃性微粒子の捕集効果に優れたハニカム構造体特にディーゼルパティキュレートフィルタを提供すること。【解決手段】ハニカム構造体のセル壁表面の表面粗さが10点平均粗さ(Rz)で30μm以上であることを特徴とするハニカム構造体。このようなハニカム構造体で構成されてなるディーゼルパティキュレートフィルタ。 被処理物(2)に通電するための一対の電極(3)及び(4)と、この一対の電極の側面には上記被処理物を外部加熱するためのサイドヒーター(10)とが、加熱処理室(1)内に配置されてなり、上記一対の電極及び上記サイドヒーターはそれぞれの供給電力制御装置に接続されてなることを特徴とする加熱装置。
Claim (excerpt)：
ハニカム構造体のセル壁表面の表面粗さが10点平均粗さ(Rz)で30μm以上であることを特徴とするハニカム構造体。
IPC (8)：
B01D 46/00 302 ,  B01D 39/20 ,  B01D 46/42 ,  C04B 35/565 ,  C04B 35/584 ,  C04B 35/64 ,  F01N 3/02 301 ,  F01N 3/02 341
FI (10)：
B01D 46/00 302 ,  B01D 39/20 D ,  B01D 46/42 B ,  F01N 3/02 301 D ,  F01N 3/02 341 J ,  C04B 35/56 101 J ,  C04B 35/56 101 S ,  C04B 35/58 102 L ,  C04B 35/58 102 T ,  C04B 35/64 E
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
  • 特開昭49-036596
  • 特開昭63-007814
  • 特開昭60-043382
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