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J-GLOBAL ID：200903042079559385

感放射線性樹脂組成物

Inventor：
岩沢 晴生

About 岩沢 晴生

, 
林 明弘

About 林 明弘

, 
下川 努

About 下川 努


Applicant, Patent owner：
ジェイエスアール株式会社

About ジェイエスアール株式会社


Agent (1)： 福沢 俊明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001371311
Publication number (International publication number)：2003173027
Application date： Dec. 05, 2001
Publication date： Jun. 20, 2003
Summary：
【要約】【課題】 解離性基含有ポリシロキサンを樹脂成分とし、特に解像度が優れた化学増幅型レジストとして好適な感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】 (A)酸解離性基含有ポリシロキサンおよび(B)放射線の照射により、トリフルオロメタンスルホン酸または下記式(I)で表される酸を発生する化合物を必須成分とする感放射線性酸発生剤を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。【化1】〔式(I)において、各Rf は相互に独立にフッ素原子またはトリフルオロメチル基を示し、Ra は水素原子、フッ素原子、炭素数1〜20の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数1〜20の直鎖状もしくは分岐状のフッ素化アルキル基、炭素数3〜20の環状の1価の炭化水素基または炭素数3〜20の環状の1価のフッ素化炭化水素基を示し、該環状の1価の炭化水素基および該環状の1価のフッ素化炭化水素基は置換されていてもよい。〕
Claim (excerpt)：
(A)酸解離性基含有ポリシロキサンおよび(B)放射線の照射により、トリフルオロメタンスルホン酸または下記式(I)で表される酸を発生する化合物を必須成分とする感放射線性酸発生剤を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。【化1】〔式(I)において、各Rf は相互に独立にフッ素原子またはトリフルオロメチル基を示し、Ra は水素原子、フッ素原子、炭素数1〜20の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数1〜20の直鎖状もしくは分岐状のフッ素化アルキル基、炭素数3〜20の環状の1価の炭化水素基または炭素数3〜20の環状の1価のフッ素化炭化水素基を示し、該環状の1価の炭化水素基および該環状の1価のフッ素化炭化水素基は置換されていてもよい。〕
IPC (5)：
G03F 7/075 521 ,  C08G 77/14 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027
FI (5)：
G03F 7/075 521 ,  C08G 77/14 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R
F-Term (20)：
2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB33 ,  2H025CB41 ,  2H025FA17 ,  4J035BA01 ,  4J035BA04 ,  4J035CA01N ,  4J035CA072 ,  4J035CA102 ,  4J035FB01 ,  4J035LB16
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (2)

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