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J-GLOBAL ID：200903042127402965

高分子化合物、酸発生剤、ポジ型レジスト組成物、およびレジストパターン形成方法

Inventor： 松丸 省吾 ,  竹下 優 ,  岩井 武 ,  羽田 英夫
Applicant, Patent owner： 東京応化工業株式会社
Agent (5)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  柳井 則子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004226735
Publication number (International publication number)：2006045311
Application date： Aug. 03, 2004
Publication date： Feb. 16, 2006
Summary：

【課題】 LERの低減された高解像性のパターンを形成できるポジ型レジスト組成物を構成できる高分子化合物、該高分子化合物からなる酸発生剤、該高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。【解決手段】 酸解離性溶解抑制基を有する(α-低級アルキル)アクリル酸エステルから誘導される構成単位(a1)と、下記一般式(a2-1)[式中、Rは水素原子又は低級アルキル基であり;Aは2価の有機基であり;Bは1価の有機基であり;Xは硫黄原子又はヨウ素原子であり;nは1又は2であり;Yは少なくとも1つの水素原子がフッ素原子で置換されていてもよい直鎖、分岐又は環状のアルキル基である。]で表される構成単位(a2)と、極性基含有脂肪族多環式基を含む(α-低級アルキル)アクリル酸エステルから誘導される構成単位(a3)とを有する高分子化合物。【化1】【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

酸解離性溶解抑制基を有する(α-低級アルキル)アクリル酸エステルから誘導される構成単位(a1)と、下記一般式(a2-1)

IPC (5)：

C08F 220/38 ,  C08F 220/22 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027

FI (6)：

C08F220/38 ,  C08F220/22 ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R

F-Term (40)：

2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AB20 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CC20 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100AL08T ,  4J100BA02P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA11P ,  4J100BA11S ,  4J100BA15P ,  4J100BA40Q ,  4J100BA51R ,  4J100BC02P ,  4J100BC03P ,  4J100BC04P ,  4J100BC08P ,  4J100BC08Q ,  4J100BC12P ,  4J100BC12Q ,  4J100BC12T ,  4J100BC43R ,  4J100BC53S ,  4J100CA03 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100JA38

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 特許第2881969号公報
  

Cited by examiner (1)

• ポジ型感光性組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-024011   Applicant：富士写真フイルム株式会社