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J-GLOBAL ID：200903042129330562
シリコーン樹脂それを含む組成物、ケイ酸ガラス系無機膜の形成方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
大垣 孝
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994054224
Publication number (International publication number)：1995258414
Application date： Mar. 24, 1994
Publication date： Oct. 09, 1995
Summary：
【要約】【目的】 従来より温和な条件で熱的安定性が良いケイ酸ガラス系無機膜を形成する方法を提供する。【構成】 置換基の一部がt-ブトキシル基であって残りが水酸基であるポリ(シロキサン)でシリコーン樹脂を構成する。このシリコーン樹脂と、酸発生剤とを混合したシリコーン樹脂とでシリコーン樹脂組成物を構成する。この組成物の皮膜を基板上に塗布し所定の露光をし、加熱し、現像する。
Claim (excerpt)：
置換基の全てが下記に示した置換基のいずれかであるポリ(シロキサン)、或は、置換基の一部が下記に示した置換基のいずれかであって残りが水酸基であるポリ(シロキサン)で構成したことを特徴とするシリコーン樹脂。第3級アルコキシル基、α-置換アリールオキシル基、α,α-2置換アリールオキシル基、無置換テトラヒドロピラニロキシル基、置換テトラヒドロピラニロキシル基、無置換テトラヒドロフラニロキシル基、置換テトラヒドロフラニロキシル基、2-アルコキシエトキシル基、2-アリールオキシエトキシル基、2-アルカノイロキシエトキシル基。
IPC (14)：
C08G 77/14 NUG
, B05D 7/24 301
, B05D 7/24 302
, B05D 7/24
, C08K 5/00
, C08K 5/521
, C08K 5/54
, C08K 5/55
, C08L 83/04 LRT
, C09D183/04 PMS
, H01L 21/027
, H01L 21/312
, H01L 23/29
, H01L 23/31
H01L 21/30 502 R
, H01L 23/30 R
