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J-GLOBAL ID:200903042214663287
二酸化炭素分離膜
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
村瀬 一美
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998176776
Publication number (International publication number):2000005578
Application date: Jun. 24, 1998
Publication date: Jan. 11, 2000
Summary:
【要約】【課題】 速い水素または窒素ガス透過速度をもってかつ高温下で高精度に二酸化炭素ガスを他の成分より分離することができ、さらに機械的強度においても十分で、かつ製造コストおよび製造の容易さの面からも有利な二酸化炭素分離膜を提供する。【解決手段】 多孔質基材表面に珪素化合物と有機高分子からなる有機-無機複合体ゾルをコーティングしたゲル膜を焼成して得られた複合膜から成り、室温から400°Cまでの範囲で分離作用を有することを特徴とする二酸化炭素分離膜。
Claim (excerpt):
多孔質基材上に、ゾル-ゲル法により形成されたポリシロキサン骨格と有機ポリマー骨格とを有する有機-無機複合体被膜を有することを特徴とする二酸化炭素分離膜。
IPC (3):
B01D 71/00
, B01D 53/22
, C01B 31/20
FI (3):
B01D 71/00
, B01D 53/22
, C01B 31/20 B
F-Term (20):
4D006GA41
, 4D006MA06
, 4D006MA22
, 4D006MA31
, 4D006MB04
, 4D006MB06
, 4D006MB16
, 4D006MC03
, 4D006MC56X
, 4D006MC65X
, 4D006NA39
, 4D006NA41
, 4D006NA46
, 4D006NA50
, 4D006NA63
, 4D006PA02
, 4D006PB20
, 4D006PB64
, 4G046JB08
, 4G046JC06
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
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特開昭62-074405
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気体分離膜およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-352675
Applicant:東京瓦斯株式会社
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多孔質分離膜及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-134872
Applicant:京セラ株式会社
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