Pat
J-GLOBAL ID：200903042297821300

中空糸膜

Inventor：
京 基樹

About 京 基樹

, 
馬淵 公洋

About 馬淵 公洋

, 
加藤 典昭

About 加藤 典昭


Applicant, Patent owner：
東洋紡績株式会社

About 東洋紡績株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000018193
Publication number (International publication number)：2001205057
Application date： Jan. 27, 2000
Publication date： Jul. 31, 2001
Summary：
【要約】【課題】 疎水性高分子と親水性高分子からなる中空糸膜において、ドライ状態の膜から溶出する物質の量が非常に少なく、安全な中空糸膜を提供する。【解決手段】 疎水性高分子と親水性高分子からなり、ガンマ線照射によって滅菌を行う中空糸膜において、ガンマ線照射後の中空糸膜の水分率が10%以下であり、かつ中空糸膜を疎水性ポリマーと親水性ポリマーの共通溶媒に溶解したとき、膜の不溶化成分が10wt%以下であることを特徴とする中空糸膜。
Claim (excerpt)：
疎水性高分子と親水性高分子からなり、ガンマ線照射によって滅菌を行う中空糸膜において、ガンマ線照射後の中空糸膜の水分率が10wt%以下であり、かつ中空糸膜を疎水性ポリマーと親水性ポリマーの共通溶媒に溶解したとき、膜の不溶化成分が10wt%以下であることを特徴とする中空糸膜。
IPC (4)：
B01D 69/08 ,  A61M 1/18 500 ,  B01D 67/00 500 ,  D06M 10/00
FI (4)：
B01D 69/08 ,  A61M 1/18 500 ,  B01D 67/00 500 ,  D06M 10/00 J
F-Term (36)：
4C077AA01 ,  4C077KK01 ,  4C077LL05 ,  4C077PP07 ,  4C077PP09 ,  4C077PP10 ,  4C077PP13 ,  4C077PP15 ,  4D006GA13 ,  4D006HA02 ,  4D006MA01 ,  4D006MA31 ,  4D006MA33 ,  4D006MA40 ,  4D006MC32 ,  4D006MC33 ,  4D006MC37 ,  4D006MC39 ,  4D006MC40X ,  4D006MC54 ,  4D006MC62 ,  4D006MC63X ,  4D006MC85 ,  4D006MC86 ,  4D006MC88 ,  4D006NA04 ,  4D006NA32 ,  4D006NA71 ,  4D006PA01 ,  4D006PB09 ,  4D006PB42 ,  4D006PC41 ,  4D006PC47 ,  4L031AB06 ,  4L031CB08 ,  4L031DA00
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (17)
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