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J-GLOBAL ID：200903042421162964

露光装置およびその方法

Inventor：
瀬川 雄司

About 瀬川 雄司


Applicant, Patent owner：
ソニー株式会社

About ソニー株式会社


Agent (1)： 佐藤 隆久
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994182305
Publication number (International publication number)：1996045823
Application date： Aug. 03, 1994
Publication date： Feb. 16, 1996
Summary：
【要約】【目的】 大型ガラス基板の露光を高いスループットで、しかも高精度に行うことができる露光装置およびその方法を提供する。【構成】 ガラス基板2にブラックマトリクスを形成する際の露光を、ガラス基板2の有効エリア5の半分の大きさのフォトマスク10を用いて、有効エリア5の右側半分について行う。その後、搬送装置によって、ガラス基板2を矢印11の方向に移動し、有効エリア5の左側半分について行う。
Claim (excerpt)：
基板上に所定のパターンを形成する際に用いられる露光装置であって、露光用の光源と、前記基板に対して一定の隙間をもって配置され、前記基板の全露光対象領域の1/2〜1/4の大きさのマスク領域を有するフォトマスクと、前記基板の全露光対象領域を、前記マスク領域に対応して分割し、分割領域が順次に前記マスク領域に位置するように、前記基板を前記フォトマスクに対して相対的に移動させる移動手段とを有する露光装置。
IPC (4)：
H01L 21/027 ,  G02B 5/20 101 ,  G03F 7/20 ,  G03F 9/00
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (17)
  • 特開昭61-242021
  • 特開昭62-117322
  • 特開昭61-226924
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