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J-GLOBAL ID：200903042539369172

イオン注入装置

Inventor：
前野 修一

About 前野 修一

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内藤 勝男

About 内藤 勝男

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安東 靖典

About 安東 靖典

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ヒルトン エフ グラビッシュ

About ヒルトン エフ グラビッシュ


Applicant, Patent owner：
日新イオン機器株式会社

About 日新イオン機器株式会社


Agent (2)： 山本 恵二 ,  納谷 洋弘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005123765
Publication number (International publication number)：2005327713
Application date： Apr. 21, 2005
Publication date： Nov. 24, 2005
Summary：
【課題】 イオンビームの幅方向におけるビーム電流密度分布の均一性の低下、平行度の悪化および基板処理速度の低下を抑制しつつ、基板の大型化に対応可能なイオン注入装置を提供する。【解決手段】 このイオン注入装置は、所望のイオン種を含み基板82の短辺幅よりも幅の広いシート状のイオンビーム20を発生するイオン源と、イオンビーム20をそのシート面20sに直交する方向に曲げて所望のイオン種を選別して導出する質量分離マグネット36と、質量分離マグネット36と協働して所望のイオン種を選別して通過させる分離スリット72と、分離スリット72を通過したイオンビーム20の照射領域内で、基板82を、イオンビーム20のシート面20sに実質的に直交する方向に往復駆動する基板駆動装置86とを備えている。【選択図】 図2
Claim (excerpt)：
イオン源で発生させた、基板の短辺幅よりも幅の広いシート状のイオンビームを、当該幅の関係を保った状態で基板に輸送して基板に照射するイオン注入装置であって、 基板に注入すべき所望のイオン種を含み前記幅の関係を有するシート状のイオンビームを発生するイオン源であって、当該シート状のイオンビームの元になるプラズマを生成するのに用いられ、当該シート状のイオンビームの幅方向に配列された複数のフィラメントを有するイオン源と、 このイオン源の各フィラメントに流すフィラメント電流を互いに独立して制御することができる1以上のフィラメント電源と、 前記イオン源で発生させたシート状のイオンビームを受けるものであって、当該イオンビームの幅よりも大きい間隔の磁極を有していて当該イオンビームをそのシート面に直交する方向に曲げて前記所望のイオン種を選別して導出する質量分離マグネットと、 この質量分離マグネットから導出されたシート状のイオンビームを受けて、当該質量分離マグネットと協働して、前記所望のイオン種を選別して通過させる分離スリットと、 基板を保持するホルダを有していて、前記分離スリットを通過したシート状のイオンビームの照射領域内で、ホルダ上の基板を、当該イオンビームのシート面に交差する方向に往復駆動する基板駆動装置とを備えることを特徴とするイオン注入装置。
IPC (2)：
H01J37/317 ,  H01L21/265
FI (5)：
H01J37/317 C ,  H01J37/317 A ,  H01J37/317 B ,  H01L21/265 603B ,  H01L21/265 T
F-Term (8)：
5C034CC01 ,  5C034CC02 ,  5C034CC03 ,  5C034CC10 ,  5C034CC17 ,  5C034CC19 ,  5C034CD02 ,  5C034CD06
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1)
  • 大電流リボンビーム注入装置
    Gazette classification：公表公報   Application number：特願平10-506065   Applicant：ダイアモンドセミコンダクタグループインコーポレイテッド
Cited by examiner (3)

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