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J-GLOBAL ID：200903042625072360

マルチ・スライス型計算機式断層写真法システムにおいてX線ビームの位置を決定するシステム

Inventor：
トーマス・ルイス・トス

About トーマス・ルイス・トス

, 
アーミン・ホースト・プフォー

About アーミン・ホースト・プフォー


Applicant, Patent owner：
ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ

About ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ


Agent (1)： 生沼 徳二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996331334
Publication number (International publication number)：1997215688
Application date： Dec. 12, 1996
Publication date： Aug. 19, 1997
Summary：
【要約】【課題】 システム経費及び処理時間を大幅に増大させることなくアーティファクトの低減を容易に改善することのできるマルチ・スライス型計算機式断層写真法システムにおいてX線ビームの位置を決定するシステムを提供する。【解決手段】 X線ビームの位置を決定するシステム50が、トゥー・スライス・システムに適用可能に構成されている。個別の列にある隣接した検出器セル56、58からの信号を比較して焦点の位置を決定する。検出器セル56によって出力される信号の信号強度A及び検出器セル58によって出力される信号の信号強度Bが、焦点60の位置と関係付けられる。ファン・ビームの中心線のz位置は、信号強度A及びBを比[(A-B)/(A+B)]に従って関係付けることにより決定され得る。この比はビーム位置を表しており、この比を用いてビームを所望される位置に維持するように作像システムのプリ・ペイシェント・コリメータ62の調節を制御することができる。
Claim (excerpt)：
マルチ・スライス型計算機式断層写真法システム(10)においてX線ビームの位置を決定するシステム(50)であって、前記計算機式断層写真法システム(10)は、焦点(60)を有しているX線源(14)と、z軸に沿って変位した少なくとも2つの列の検出器セル(52、54)とを含んでおり、前記X線源(14)は、z軸に沿ってX線ビームを発生しており、前記ビーム位置決定システム(50)は、第1の前記列(52)に設けられた第1の検出器(56)と、第2の前記列(54)に設けられた第2の検出器(58)とから個別の信号を取得し、該個別の信号の強度からビーム位置を決定するように構成されているマルチ・スライス型計算機式断層写真法システム(10)においてX線ビームの位置を決定するシステム(50)。
IPC (3)：
A61B 6/03 320 ,  G01T 1/29 ,  G21K 1/04
FI (3)：
A61B 6/03 320 Y ,  G01T 1/29 C ,  G21K 1/04 R
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
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