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J-GLOBAL ID：200903042641009156

ポジ型感放射線性レジスト用現像液

Inventor： 谷島 幹男 ,  小澤 角栄 ,  三平 能之 ,  金澤 政男 ,  福川 敏巳
Applicant, Patent owner： 日本ゼオン株式会社 ,  富士通株式会社
Agent (1)： 西川 繁明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991290710
Publication number (International publication number)：1993100439
Application date： Oct. 08, 1991
Publication date： Apr. 23, 1993
Summary：

【要約】【目的】 現像後のレジストパターンの粗密によるレジストパターン寸法の変化を少なくすることができるポジ型感放射線性レジスト用の有機アルカリ現像液を提供すること。【構成】 アルカリ可溶性フェノール樹脂とキノンジアジドスルホン酸エステルを含むポジ型感放射線性レジスト用の現像液であって、該現像液が有機第四級アンモニウムハイドロオキサイドと硼酸を含有する有機アルカリ水溶液であることを特徴とするポジ型感放射線性レジスト用現像液。

Claim (excerpt)：

アルカリ可溶性フェノール樹脂とキノンジアジドスルホン酸エステルを含むポジ型感放射線性レジスト用の現像液であって、該現像液が有機第四級アンモニウムハイドロオキサイドと硼酸を含有する有機アルカリ水溶液であることを特徴とするポジ型感放射線性レジスト用現像液。

IPC (2)：

G03F 7/32 ,  H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭59-062850
  
• 特開昭62-131263
  
• 感光性樹脂現像液
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-276687   Applicant：チツソ株式会社