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J-GLOBAL ID:200903042732085939
構造体、機能性構造体及び磁気記録媒体の製造方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (2):
山下 穣平
, 志村 博
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003163852
Publication number (International publication number):2004066447
Application date: Jun. 09, 2003
Publication date: Mar. 04, 2004
Summary:
【課題】所望の位置に孔を形成した構造体を提供する。【解決手段】(A)複数の凸構造を有する押圧部材と基板とを用意する工程と、(B)前記基板の上に前記部材より強度の弱い材料を用いて層を形成する工程と、(C)前記層に前記部材を押圧し、前記層に前記部材の凸構造に対応した窪みを形成する工程と、(D)前記層をエッチングし、少なくとも前記基板表面の一部を露出させる工程と及び、(E)前記基板を陽極酸化し、前記基板に孔を形成する工程とを有する製造方法により上記の構造体を製造する。【選択図】図1
Claim (excerpt):
孔を有する構造体の製造方法であって、
(A)複数の凸構造を有する押圧部材と基板とを用意する工程と、
(B)前記基板の上に前記部材より強度の弱い材料を用いて層を形成する工程と、
(C)前記層に前記部材を押圧し、前記層に前記部材の凸構造に対応した窪みを形成する工程と、
(D)前記層をエッチングし、少なくとも前記基板表面の一部を露出させる工程と及び、
(E)前記基板を陽極酸化し、前記基板に孔を形成する工程とを有することを特徴とする孔を有する構造体の製造方法。
IPC (11):
B82B3/00
, B41M5/00
, C23F1/00
, C23F1/02
, C23F4/00
, C25D5/02
, C25D5/34
, C25D7/00
, C25D11/02
, C25D11/04
, G11B5/855
FI (11):
B82B3/00
, B41M5/00 101
, C23F1/00 102
, C23F1/02
, C23F4/00 A
, C25D5/02 B
, C25D5/34
, C25D7/00 K
, C25D11/02
, C25D11/04 304
, G11B5/855
F-Term (29):
2H086CA01
, 2H086CA11
, 4K024AA03
, 4K024AA04
, 4K024AB08
, 4K024BA06
, 4K024BB14
, 4K024BC10
, 4K024DA07
, 4K024FA05
, 4K024GA16
, 4K057DA11
, 4K057DB05
, 4K057DB17
, 4K057DN01
, 4K057WA11
, 4K057WB05
, 4K057WC03
, 4K057WN01
, 5D112AA02
, 5D112AA18
, 5D112BA06
, 5D112BA09
, 5D112GA02
, 5D112GA20
, 5D112GA27
, 5D112GA29
, 5D112GB07
, 5D112GB09
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
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ナノ構造体の製造方法及びナノ構造体
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-187668
Applicant:キヤノン株式会社
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