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J-GLOBAL ID：200903042768651523

ポリイミド系絶縁膜用組成物、絶縁膜および絶縁膜の形成法

Inventor：
石川 誠治

About 石川 誠治

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西尾 一章

About 西尾 一章

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山本 茂

About 山本 茂

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田口 三津志

About 田口 三津志


Applicant, Patent owner：
宇部興産株式会社

About 宇部興産株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999268965
Publication number (International publication number)：2001089656
Application date： Sep. 22, 1999
Publication date： Apr. 03, 2001
Summary：
【要約】【課題】 貯蔵安定性(比較的低粘度が一定に保たれる)および印刷性が良好で、絶縁膜(硬化膜)が耐メッキ性(耐スズ性、耐スズ潜り性)、耐熱性と柔軟性という相反する特性を併せ持ち、必要であれば一色塗りを可能とするコ-ト材、およびその絶縁膜を提供する。【解決手段】 (1)末端ハ-フエステル化イミドシロキサンオリゴマ-、(2)ジアミン化合物、(3)エポキシ化合物、(4)触媒、(5)微細無機フィラ-および(6)高沸点溶媒からなり、各成分の割合が、(1)末端ハ-フエステル化イミドシロキサンオリゴマ-100重量部に対して、(2)ジアミン化合物0.01〜10重量部、(3)エポキシ化合物1〜30重量部、(3)触媒0.1〜10重量部、(4)微細無機フィラ-20〜150重量部および(5)高沸点溶媒60〜200重量部であるポリイミド系絶縁膜用組成物、ポリイミド系絶縁膜、およびポリイミド系絶縁膜の形成法に関する。
Claim (excerpt)：
(1)末端ハ-フエステル化イミドシロキサンオリゴマ-、(2)ジアミン化合物、(3)エポキシ化合物、(4)触媒、(5)微細無機フィラ-および(6)高沸点溶媒からなり、各成分の割合が、(1)末端ハ-フエステル化イミドシロキサンオリゴマ-100重量部に対して、(2)ジアミン化合物0.01〜10重量部、(3)エポキシ化合物1〜30重量部、(3)触媒0.1〜10重量部、(4)微細無機フィラ-20〜150重量部および(5)高沸点溶媒60〜200重量部であるポリイミド系絶縁膜用組成物。
IPC (2)：
C08L 79/08 ,  H01B 3/30
FI (2)：
C08L 79/08 ,  H01B 3/30 G
F-Term (32)：
4J002CD002 ,  4J002CM041 ,  4J002DG048 ,  4J002DJ018 ,  4J002DJ048 ,  4J002DJ058 ,  4J002EN076 ,  4J002EQ027 ,  4J002EU117 ,  4J002EX039 ,  4J002FD018 ,  4J002FD147 ,  4J002FD206 ,  4J002FD209 ,  4J002GQ01 ,  5G305AA11 ,  5G305AB17 ,  5G305AB24 ,  5G305AB36 ,  5G305AB40 ,  5G305BA09 ,  5G305BA18 ,  5G305BA26 ,  5G305CA25 ,  5G305CA56 ,  5G305CB12 ,  5G305CB16 ,  5G305CD01 ,  5G305CD06 ,  5G305CD07 ,  5G305CD12 ,  5G305DA22
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
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