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J-GLOBAL ID：200903042828277170
光触媒被覆材及びその製造方法、並びに該光触媒被覆材を使用する汚染物質含有物浄化方法及び汚染物質含有物浄化装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
梶 良之
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000305917
Publication number (International publication number)：2001187346
Application date： Oct. 05, 2000
Publication date： Jul. 10, 2001
Summary：
【要約】【課題】 光触媒性と耐久性との両者に優れた光触媒被覆材、及びその製造方法を提供すること。また、前記光触媒被覆材を使用して、光触媒膜の剥離を生じることがなく耐久性の点において実用に適するとともに、汚染物質を効果的に分解・除去することができる、光触媒による汚染物質含有物浄化方法及び光触媒による汚染物質含有物浄化装置を提供すること。【解決手段】 チタン基合金基材上に、アナターゼ型及び/又はルチル型の酸化チタン結晶を90体積%以上含有する光触媒膜が形成されてなる光触媒被覆材であって、前記チタン基合金基材のチタン含有量が70質量%以上であり、前記光触媒膜の厚みが0.1μm以上であり、前記チタン基合金基材と前記光触媒膜の間に存在し、酸化チタン結晶、チタン基合金結晶とも異なる不可避的薄膜の厚みが0.05μm以下であることを特徴とする光触媒被覆材。
Claim (excerpt)：
チタン基合金基材上に、アナターゼ型及び/又はルチル型の酸化チタン結晶を90体積%以上含有する光触媒膜が形成されてなる光触媒被覆材であって、前記チタン基合金基材のチタン含有量が70質量%以上であり、前記光触媒膜の厚みが0.1μm以上であり、前記チタン基合金基材と前記光触媒膜の間に存在し、酸化チタン結晶、チタン基合金結晶とも異なる不可避的薄膜の厚みが0.05μm以下であることを特徴とする光触媒被覆材。
IPC (13)：
B01J 35/02
, A61L 9/00
, A61L 9/20
, B01D 53/86
, B01J 21/06
, B01J 23/745
, B01J 32/00
, B01J 37/02 301
, B01J 37/14
, B09B 3/00 ZAB
, C02F 1/32
, C02F 1/72 101
, F24F 7/06
B01J 35/02 J
, A61L 9/00 C
, A61L 9/20
, B01J 21/06 A
, B01J 32/00
, B01J 37/02 301 E
, B01J 37/14
, C02F 1/32
, C02F 1/72 101
, F24F 7/06 C
, B01D 53/36 J
, B01D 53/36 G
, B01J 23/74 301 A
, B09B 3/00 ZAB D
