半導体ウエハーの洗浄・乾燥装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：石井暁夫 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998000092
Publication number (International publication number)：1999195635
Application date： Jan. 05, 1998
Publication date： Jul. 21, 1999
Summary：

【要約】【課題】半導体ウエハー3の表面を、カバー容器1の内において回転しながら噴出ノズル5から洗浄水を散布することで洗浄したのち乾燥する場合に、前記半導体ウエハーの表面に乾燥染みが発生することを回避する。【手段】前記の洗浄に相前後して、前記半導体ウエハー3の表面に、ブロー管7から窒素ガス等の不活性ガスをブローする。

Claim (excerpt)：

上面を開放したカバー容器内に、回転する縦軸を、当該カバー容器の底板を貫通して挿入し、この縦軸の上端に半導体ウエハーの載置部を設け、この半導体ウエハー載置部の上方に、前記半導体ウエハーの表面に対する洗浄水の噴出ノズルを配設して成る洗浄・乾燥装置において、前記半導体ウエハー載置部の上方に、前記半導体ウエハーの表面に対する窒素ガス等の不活性ガスの噴出ノズルを配設したことを特徴とする半導体ウエハーの洗浄・乾燥装置。

IPC (3)：

H01L 21/304 651 , H01L 21/304 , H01L 21/304 643

FI (3)：

H01L 21/304 651 L , H01L 21/304 651 B , H01L 21/304 643 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

基板の洗浄処理方法並びに洗浄処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-190059 Applicant：大日本スクリーン製造株式会社

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