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J-GLOBAL ID：200903042918350780

露光装置及びデバイス製造方法

Inventor：
此内 修

About 此内 修

, 
佐野 直人

About 佐野 直人


Applicant, Patent owner：
キヤノン株式会社

About キヤノン株式会社


Agent (1)： 丸島 儀一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996260612
Publication number (International publication number)：1998106927
Application date： Oct. 01, 1996
Publication date： Apr. 24, 1998
Summary：
【要約】【課題】 レーザーを用いる露光装置において照度むらを軽減すること。【解決手段】 露光用の光源であるエキシマレーザーの共振器20において、前側の共振用ミラーであるグレーティングミラー1の表面を光軸方向とH方向に平行な断面(以下、「H断面」と記す)に関して凹面を有するシリンドリカルミラーとし、後側の共振用ミラー9を光軸方向とV方向とに平行な断面(以下、「V断面」と記す)に関して凹面を有するシリンドリカルミラーとすることによりH断面及びV断面の双方に関して安定型共振器を構成し、これによりH方向とV方向の双方でレーザー光の空間的コヒーレンスを小さくする。
Claim (excerpt)：
レーザーからのレーザー光でマスクのパターンを照明することにより該マスクのパターンを介して被露光基板を露光する露光装置において、前記レーザーは、互いに直交する2つの断面の夫々に関して安定型共振器となる共振器を有することを特徴とする露光装置。
IPC (3)：
H01L 21/027 ,  H01S 3/08 ,  H01S 3/097
FI (3)：
H01L 21/30 515 B ,  H01S 3/08 Z ,  H01S 3/097 Z
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (8)
  • 特開昭62-076581
  • 特開平4-018783
  • 特開昭63-178573
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