投影露光装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：鈴木章夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995188560
Publication number (International publication number)：1997017725
Application date： Jun. 30, 1995
Publication date： Jan. 17, 1997
Summary：

【要約】【目的】 ArFエキシマレーザを光源とした場合に生じる2光子吸収による投影露光装置の光学素子損傷を抑え、その性能低下を防止する。【構成】 ArFエキシマレーザを光源とする投影露光装置において、光源21と投影光学系2との間に、レーザ光を異なる光路のレーザ光として2つに分割する分割手段と、分割されたレーザ光に光路差を与えるための手段と、前記分割されかつ光路差が与えられたレーザ光を同一の光軸上に戻すための手段からなるパルス分割装置1を備える。光はこのパルス分割装置1において2つの光路に分割され、分割されたレーザ光はそれぞれ異なる距離を伝搬して再び同一の光軸上に戻るため、1パルスの光が時間軸上において2つ以上のパルス列に変化され、レーザ光のパルス強度のピークが低くされ、投影露光装置の光学素子における2光子吸収による損傷が低減される。

Claim (excerpt)：

光源から射出されるレーザ光を投影光学系により被露光体に露光するための投影露光装置において、前記投影光学系に入射されるレーザ光を異なる光路のレーザ光として2つに分割する分割手段と、分割されたレーザ光に光路差を与えるための手段と、前記分割されかつ光路差が与えられたレーザ光を同一の光軸上に戻すための手段とを備えることを特徴とする投影露光装置。

IPC (3)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 505 , G03F 7/20 521

FI (4)：

H01L 21/30 515 B , G03F 7/20 505 , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 515 D

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

特開昭63-073221
半導体露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-182001 Applicant：日本電気株式会社

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