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J-GLOBAL ID:200903043019235838

微小構造の加工方法、該加工法を用いて作製した微小素子の作製方法、微小素子

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 長尾 達也
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003148641
Publication number (International publication number):2004356134
Application date: May. 27, 2003
Publication date: Dec. 16, 2004
Summary:
【課題】フォトリソグラフィ等のような複雑なプロセスを必要とせず、単純なプロセスによって微小な構造の加工が可能となる微小構造の加工方法、該加工法を用いて作製した微小素子の作製方法、微小素子を提供する。【解決手段】微小構造を加工するに際して、照射する光波長よりも小さい変調形状を有する型構造101に光102を照射し、該型構造の表面にその変調形状を反映した近接場光の分布103を形成し、該近接場光の分布の形成された周囲の空間に、原料ガスを満たして光化学反応を起こさせ、該型構造の表面に該光化学反応によって微小構造105を形成する。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
照射する光波長よりも小さい変調形状を有する型構造に光を入射させ、該型構造の表面にその変調形状を反映した近接場光の分布を形成する工程と、 前記型構造における前記近接場光の分布の形成された周囲の空間に、原料ガスを満たして光化学反応を起こさせ、該型構造の表面に該光化学反応によって微小構造を形成する工程と、を有することを特徴とする微小構造の加工方法。
IPC (4):
H01L21/027 ,  B81C5/00 ,  C23C16/48 ,  H01L21/205
FI (4):
H01L21/30 502D ,  B81C5/00 ,  C23C16/48 ,  H01L21/205
F-Term (18):
4K030AA02 ,  4K030AA04 ,  4K030AA06 ,  4K030AA07 ,  4K030AA08 ,  4K030AA11 ,  4K030AA12 ,  4K030AA14 ,  4K030BB14 ,  4K030CA06 ,  4K030CA07 ,  4K030FA06 ,  4K030LA00 ,  4K030LA15 ,  5F045AA11 ,  5F045DA56 ,  5F046AA28 ,  5F046BA10
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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